[實用新型]一種硅片清洗設備的進料裝置

有效

• 申請號: 201721065787.5
• 申請日: 2017-08-24
• 公開（公告）號: CN207238610U
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 古元甲;劉曉偉;范猛;劉濤;石海濤;李偉;劉沛然;孫昊;孫毅;田志民;王少剛;邱長興;李強瑛
• 申請（專利權）人: 天津市環歐半導體材料技術有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙)12213
• 代理人: 欒志超

1.一種硅片清洗設備的進料裝置，包括進料部，其特征在于：所述進料部內設置定位機構、硅片放置機構和分片機構，所述定位機構設置在所述硅片放置機構的前端，所述分片機構包括主噴元件和側噴元件，所述主噴元件設置在所述硅片放置機構的尾端，所述側噴元件設置在所述硅片放置機構的側面，所述主噴元件與所述側噴元件的進水管均與穩壓泵連接，所述穩壓泵與控制系統電連接。

2.根據權利要求1所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述側噴元件為兩個，兩個所述側噴元件分別設置在所述硅片放置機構的兩側。

3.根據權利要求1或2所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述主噴元件出水孔至少為兩列，每列至少2個出水孔。

4.根據權利要求3所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述出水孔包括第一出水孔和第二出水孔，所述第二出水孔的直徑大于所述第一出水孔的直徑。

5.根據權利要求4所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述側噴元件上設置側噴元件出水孔，所述側噴元件出水孔的直徑小于所述第二出水孔的直徑。

6.根據權利要求1所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述定位機構為移動擋板。

7.根據權利要求1所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：還包括進料機構，所述進料機構包括進料輥，所述進料輥設置于所述硅片放置機構的上方。

8.根據權利要求7所述的一種硅片清洗設備的進料裝置，其特征在于：所述進料輥至少設置兩個。