[實(shí)用新型]一種光學(xué)系統(tǒng)的檢焦裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721024277.3
• 申請(qǐng)日: 2017-08-16
• 公開（公告）號(hào): CN207037329U
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳飛斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吳飛斌
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種光學(xué)系統(tǒng)的檢焦裝置，其特征在于：從光束入射方向依次包括光源（1）、光束準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)（2）、毛玻璃（3）、物面光柵（4）、掩膜平臺(tái)（5）、被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）、像面光柵（7）、硅片平臺(tái)（8）、CCD探測(cè)器（9）；所述的物面光柵（4）置于掩膜平臺(tái)（5）上，可以隨著掩膜平臺(tái)（5）的移動(dòng)而移動(dòng)，并位于被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）的物方平面上；所述的像面光柵（7）位于光刻機(jī)的硅片平臺(tái)（8）上，并位于被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）的像方平面上；所述的CCD探測(cè)器（9）位于硅片平臺(tái)（8）的下方，隨著硅片平臺(tái)（8）的移動(dòng)而同步移動(dòng)；當(dāng)硅片平臺(tái)（8）離焦時(shí)，光束準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)（2）的光經(jīng)過(guò)物面光柵（4）并通過(guò)被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）投影到像面光柵（7）后，不同衍射級(jí)相互干涉形成干涉條紋；當(dāng)所述的硅片平臺(tái)（8）位于所述的被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）的共焦平面位置時(shí)，光源（1）和光束準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)（2）的出射平面波前經(jīng)過(guò)物面光柵（4）的衍射、被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）的投影、像面光柵（7）的衍射，不同衍射級(jí)相互干涉形成零條紋的干涉圖像；當(dāng)硅片平臺(tái)（8）從離焦位置向共焦位置平移時(shí)，光束準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)（2）的光經(jīng)過(guò)物面光柵（4）并通過(guò)被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）投影到像面光柵（7）后，干涉條紋減少直到消失；根據(jù)CCD探測(cè)器（9）探測(cè)的像面光柵（7）衍射后的成像光斑上干涉條紋的變化情況，即可以完成被測(cè)光學(xué)系統(tǒng)（6）的檢焦測(cè)量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)系統(tǒng)的檢焦裝置，其特征在于：所述的物面光柵（4）為振幅型Ronchi線光柵，占空比為50%，周期為p1。

3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)系統(tǒng)的檢焦裝置，其特征在于：所述的像面光柵（7）是網(wǎng)格型分布，透光單元為大小相等的正方形，每個(gè)透光單元周圍為8個(gè)與透光單元等面積的遮光單元，從而形成透光單元間隔等面積遮光單元的分布形式；所述的像面光柵（7）放置在硅片平臺(tái)（8）上時(shí)，透光單元和遮光單元的對(duì)角線方向與物面光柵（4）的方向平行；所述的像面光柵（7）周期等于相鄰兩個(gè)透光單元的對(duì)角線距離，數(shù)值為p2=，其中a為透光單元的邊長(zhǎng)。