[實用新型]一種具有助推結構的非轉移等離子弧裝置有效
| 申請號: | 201721022117.5 | 申請日: | 2017-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN207124799U | 公開(公告)日: | 2018-03-20 |
| 發明(設計)人: | 王晶晨;王東方;楊玉地;石為華;宋敏潔;吳道洪 | 申請(專利權)人: | 神霧科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司11278 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 102200 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 助推 結構 轉移 等離子 裝置 | ||
1.一種具有助推結構的非轉移等離子弧裝置,其特征在于,包括:
非轉移弧等離子槍和非轉移等離子弧助推器,所述非轉移弧等離子槍設置在所述非轉移等離子弧助推器的助推器空腔中,所述非轉移弧等離子槍的下部和所述非轉移等離子弧助推器的下部之間具有空隙,所述空隙為通入壓縮空氣的氣路,非轉移等離子弧助推器與非轉移弧等離子槍上部接觸。
2.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述非轉移弧等離子槍包括:陰極桿、絕緣機構、陰極頭和陽極,其中,所述絕緣機構套設在所述陰極桿外,所述陰極頭與所述陰極桿連接且裸露于所述絕緣機構外;
所述陽極與所述陰極頭相對設置且之間具有空隙;所述陽極上設置有中心通孔。
3.如權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述陽極內部具有U形空腔,包括依次設置的環形基座和錐形頭部,所述環形基座與所述絕緣機構靠近所述陰極頭的一端連接,所述中心通孔位于所述錐形頭部中心處。
4.如權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述絕緣機構包括自上而下依次順序設置的絕緣套、絕緣槍體和陶瓷環,其中,所述絕緣套設置在遠離所述陰極頭的位置。
5.如權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述陰極桿為圓柱形機構,所述陰極頭包括與所述陰極桿連接的圓柱形的頭體和由所述頭體延伸而出的半球形的頭部,且所述頭體的截面直徑小于所述陰極桿的截面直徑;所述陶瓷環設置在所述頭體外側;
所述陰極頭的頭部位于所述U形空腔中,且與所述U形空腔的內壁之間留有縫隙。
6.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述非轉移弧等離子槍還包括槍體外殼和端蓋,所述端蓋將所述絕緣機構和部分陽極封裝于所述槍體外殼內;
所述端蓋中心設置有蓋孔,所述錐形頭部突出于所述蓋孔外;
所述槍體外殼遠離所述端蓋的一端設置有第一開口,所述絕緣套部分地伸出所述槍體外殼的第一開口;
所述陽極與所述槍體外殼接觸。
7.如權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述非轉移等離子弧助推器包括:外壁、進氣口、非轉移等離子弧助推頭、出弧部、冷卻孔,并且所述助推器空腔位于所述外壁內部;
所述進氣口設置在所述外壁上,所述進氣口與所述助推器空腔相連通,所述外壁底部連接所述非轉移等離子弧助推頭;
所述出弧部貫通地設置在非轉移等離子弧助推頭中心,所述出弧部包括上端的漏斗形凹口和下端的柱形出弧孔;
所述冷卻孔緊鄰所述出弧部設置在所述非轉移等離子弧助推頭的非中心位置處。
8.如權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述冷卻孔并排均勻且貫通地分布在所述出弧部的四周。
9.如權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述陰極桿材料為銅合金,內部有水路結構,所述水路結構與外界水電纜連接;和/或,
所述絕緣套材料和所述絕緣槍體材料為聚四氟、尼龍或玻璃鋼;和/或,
所述槍體外殼材料為銅合金或鐵合金。
10.如權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述絕緣槍體內部設置有水路與氣路結構。
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