[實用新型]光學鏡頭及攝像模組有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721004423.6 | 申請日: | 2017-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN207336902U | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王明珠;姚立鋒;郭楠 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波舜宇光電信息有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B7/02 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐;王艷春 |
| 地址: | 315400 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學 鏡頭 攝像 模組 | ||
本實用新型提供了一種光學鏡頭,包括:準備第一子鏡頭和第二子鏡頭;第一子鏡頭包括第一鏡筒和至少一個第一鏡片,第二子鏡頭包括第二鏡筒和至少一個第二鏡片;將所述第一子鏡頭布置于所述第二子鏡頭的光軸,構(gòu)成可成像的光學系;通過使所述第一子鏡頭相對于所述第二子鏡頭在所述光軸方向上移動,使所述光學系成像的實測像面與目標面匹配;以及連接所述第一子鏡頭和所述第二子鏡頭,使得所述第一子鏡頭和所述第二子鏡頭在所述光軸方向上的相對距離保持不變。本實用新型還提供了相應(yīng)的光學鏡頭以及攝像模組及其組裝方法。本實用新型能夠使場曲被有效減小;能夠使過程能力指數(shù)提升;能夠使得各個元件精度及其裝配精度的要求變寬松。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及光學技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,本實用新型涉及光學鏡頭和攝像模組的解決方案。
背景技術(shù)
隨著移動電子設(shè)備的普及,被應(yīng)用于移動電子設(shè)備的用于幫助使用者獲取影像(例如視頻或者圖像)的攝像模組的相關(guān)技術(shù)得到了迅猛的發(fā)展和進步,并且在近年來,攝像模組在諸如醫(yī)療、安防、工業(yè)生產(chǎn)等諸多的領(lǐng)域都得到了廣泛的應(yīng)用。
為了滿足越來越廣泛的市場需求,高像素,小尺寸,大光圈是現(xiàn)有攝像模組不可逆轉(zhuǎn)的發(fā)展趨勢。市場對攝像模組的成像質(zhì)量提出了越來越高的需求。影響既定光學設(shè)計的攝像模組解像力的因素包括光學成像鏡頭的品質(zhì)和模組封裝過程中的制造誤差。其中光學成像鏡頭的場曲以及模組封裝制造誤差形成的場曲都會影響到攝像模組的解像力。在行業(yè)內(nèi),場曲問題目前并沒有有效的解決方案。
場曲又稱“像場彎曲”。當透鏡存在場曲時,整個光束的交點不與理想像點重合,雖然在每個特定點都能得到清晰的像點,但整個像平面則是一個曲面。當感光元件是平面時,彎曲的像面不能和感光元件的感光面重合,以至于,當中心視場重合時,中心視場的解像力高,成像清晰,而周邊有場曲的視場由于像面彎曲而不能與感光元件的感光面重合,造成解像力低,成像品質(zhì)下降;反之亦然,當周邊有場曲的視場與感光元件的感光面重合時,該周邊視場的解像力高,成像清晰,而中心視場由于不能與感光元件的感光面重合,造成解像力低,成像品質(zhì)下降。即使感光元件不是平面,只要光學鏡頭的成像面的彎曲程度與感光元件的感光面的彎曲程度不匹配,就會出現(xiàn)此兩者之間的相對差異,即場曲,其造成的影響與上述情況一樣。
所以場曲的影響使得鏡頭的成像像面不能與感光元件的感光面很好的匹配而造成被感光元件所成的像相對于最佳成像品質(zhì)有所下降。
因攝像模組的場曲產(chǎn)生于光學成像鏡頭的制造過程以及模組封裝的過程中。其中任何一個過程中所產(chǎn)生的場曲沒有被消除都會引起成像質(zhì)量的下降,兩個過程的場曲存在疊加惡化的情況,解決的過程不能夠孤立看待。然而現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈中,光學成像鏡頭的制造過程與模組封裝的過程是分開的,這一現(xiàn)狀與所述兩個過程的場曲不應(yīng)被孤立解決相矛盾。
下面,從上述兩大過程中分別論述現(xiàn)有場曲解決方案及現(xiàn)狀:
(一)(1)傳統(tǒng)的光學成像鏡頭中的一體式鏡頭,多個透鏡被逐次固定在鏡筒中,透鏡一旦被安裝在鏡筒中,位置不可再調(diào)整,鏡頭整體的性能確定,對成像質(zhì)量的控制只能通過控制部件公差來實現(xiàn)。 (2)傳統(tǒng)的光學成像鏡頭中的分體鏡頭,多個鏡頭單元無間隙緊密承靠于某一安裝面,以此獲得移動基準,其安裝面平行于成像面,因此,其移動帶來的調(diào)整只能是沿所承靠的安裝面的平行于成像面的調(diào)整。不能解決場曲問題。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波舜宇光電信息有限公司,未經(jīng)寧波舜宇光電信息有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721004423.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





