[實(shí)用新型]一種電子信息抗干擾器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720997371.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207011214U | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾海鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 曾海鵬 |
| 主分類號(hào): | H05K9/00 | 分類號(hào): | H05K9/00;H05K7/20 |
| 代理公司: | 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11638 | 代理人: | 張廷利 |
| 地址: | 417600 湖南*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子信息 抗干擾 | ||
1.一種電子信息抗干擾器,其特征在于,包括:
電子信息設(shè)備本體;
底座,其為圓柱形,且為不銹鋼材質(zhì),所述底座的上端面依次開設(shè)有同圓心且內(nèi)徑依次增大的第一圓環(huán)形凹槽、第二圓環(huán)形凹槽和第三圓環(huán)形凹槽,所述底座的上端面被所述第一圓環(huán)形凹槽包圍的區(qū)域涂覆有絕緣層,該區(qū)域被限定為用于固定電子信息設(shè)備本體的固定平臺(tái),所述底座的外側(cè)壁分別具有接地端及電纜插孔,所述電纜插孔從所述底座的外側(cè)壁延伸至所述固定平臺(tái),所述電子信息設(shè)備本體的線纜從所述電纜插孔內(nèi)穿出;
散熱機(jī)構(gòu),其嵌設(shè)在所述第一圓環(huán)形凹槽內(nèi),并罩設(shè)電子信息設(shè)備本體,所述散熱機(jī)構(gòu)包括兩端開口的第一金屬桶體、套設(shè)在所述第一金屬桶體外圍且兩端開口的第二金屬桶體、若干個(gè)固定在所述第一金屬桶體和所述第二金屬桶體之間的圓環(huán)形導(dǎo)熱片以及分別封堵所述第一金屬桶體和所述第二金屬桶體兩端的圓環(huán)形金屬蓋,所述散熱機(jī)構(gòu)還包括置于所述圓環(huán)形導(dǎo)熱片上的石蠟;
第一抗干擾機(jī)構(gòu),其嵌設(shè)在所述第二圓環(huán)形凹槽內(nèi),并罩設(shè)所述散熱機(jī)構(gòu),所述第一抗干擾機(jī)構(gòu)為下端開口的圓柱形磁場(chǎng)屏蔽罩,所述圓柱形磁場(chǎng)屏蔽罩嵌入所述第二圓環(huán)形凹槽內(nèi)的區(qū)域涂覆有導(dǎo)電膠;
第二抗干擾機(jī)構(gòu),其嵌設(shè)在所述第三圓環(huán)形凹槽內(nèi),并罩設(shè)所述第一抗干擾機(jī)構(gòu),所述第二抗干擾機(jī)構(gòu)為下端開口的圓柱形電場(chǎng)屏蔽罩,所述圓柱形電場(chǎng)屏蔽罩嵌入所述第三圓環(huán)形凹槽內(nèi)的區(qū)域涂覆有導(dǎo)電膠;
其中,所述散熱機(jī)構(gòu)和所述第一抗干擾機(jī)構(gòu)之間不接觸,所述第一抗干擾機(jī)構(gòu)和所述第二抗干擾機(jī)構(gòu)之間不接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,所述圓環(huán)形導(dǎo)熱片的材質(zhì)為鋁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,若干個(gè)所述圓環(huán)形導(dǎo)熱片自上至下排列,且相鄰兩個(gè)圓環(huán)形導(dǎo)熱片之間的距離為1~3cm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,所述第一金屬桶體與所述第二金屬桶體的直徑差為3~8cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,所述圓柱形電場(chǎng)屏蔽罩的材質(zhì)為鐵。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,所述第一圓環(huán)形凹槽、所述第二圓環(huán)形凹槽和所述第三圓環(huán)形凹槽的深度相同,均為0.3~1.5cm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子信息抗干擾器,其特征在于,所述底座的厚度為2cm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于曾海鵬,未經(jīng)曾海鵬許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720997371.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種金剛石切割線的制備工藝
- 下一篇:一種新的鋁腐蝕箔前處理工藝





