[實用新型]一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720988894.9 | 申請日: | 2017-08-09 | 
| 公開(公告)號: | CN207468717U | 公開(公告)日: | 2018-06-08 | 
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚華光 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽普威達真空科技有限公司 | 
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/54 | 
| 代理公司: | 合肥順超知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 34120 | 代理人: | 童強 | 
| 地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼: | 安徽;34 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱機構(gòu) 安裝卡槽 加熱 磁控濺射裝置 安裝定位板 本實用新型 鍍層缺陷 溫控開關(guān) 修復零件 隼接 磁控濺射鍍膜設(shè)備 電阻電熱絲 溫度傳感器 加熱平臺 加熱效果 熱量傳導 外壁設(shè)置 外殼兩側(cè) 左右側(cè)壁 內(nèi)腔 拆卸 保證 修復 能源 配合 維護 | ||
本實用新型公開了磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域的一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu),包括保護外殼,所述保護外殼的左右側(cè)壁均開設(shè)有安裝卡槽,所述安裝卡槽的內(nèi)腔隼接有安裝定位板,所述保護外殼的外壁設(shè)置有溫控開關(guān),本實用新型通過溫度傳感器和溫控開關(guān)的相互配合,使電阻電熱絲的加熱溫度能夠被控制在一定的范圍內(nèi),提高加熱機構(gòu)的加熱精度,保證良好的修復品質(zhì),通過加熱平臺的設(shè)置,使加熱的溫度更加的均勻,保證良好的加熱效果,同時減少熱量傳導的損失,減少能源的浪費,通過保護外殼兩側(cè)的安裝卡槽和安裝定位板的隼接作用,方便對加熱機構(gòu)的安裝和拆卸,有利于后期的維護。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu)。
背景技術(shù)
磁控濺射是物理氣相沉積的一種,一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,而上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率,磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
例如中國專利申請?zhí)枮镃N201420201810.9一種用于修復零件表面金屬鍍層缺陷的磁控濺射裝置,具體內(nèi)容為:一種用于修復零件表面金屬鍍層缺陷的磁控濺射裝置,由下真空室以及與下真空室密封對接的上真空室構(gòu)成真空腔,在真空腔內(nèi)架設(shè)有樣品臺,所述樣品臺通過絕緣支撐連接于下真空室內(nèi)壁,在樣品臺下方或內(nèi)部設(shè)置有加熱元件,并設(shè)置與所述加熱元件連接的溫度測控裝置,所述樣品臺上還設(shè)有用于控制濺射束流的柵孔,所述下真空室的側(cè)部開設(shè)有孔并在孔上安裝有法蘭,下真空室的內(nèi)腔底部設(shè)有磁控濺射源,該裝置可以用來對零部件在鍍制過程、運輸過程以及使用過程中形成的缺陷和損傷進行磁控濺射修復,可以非常經(jīng)濟且有效地實現(xiàn)對超長、超大零件的修復,由于修復過程是在真空條件下完成的,所以可以完全避免傳統(tǒng)修復過程的環(huán)境污染問題,雖然該裝置可以用來對零部件在鍍制過程、運輸過程以及使用過程中形成的缺陷和損傷進行磁控濺射修復,可以非常經(jīng)濟且有效地實現(xiàn)對超長、超大零件的修復,但是該裝置沒有對其加熱裝置的具體說明,無法確定其工作溫度精度,降低其修復零件的品質(zhì)。基于此,本實用新型設(shè)計了一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu),以解決上述問題。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu),以解決上述背景技術(shù)中提出的雖然該裝置可以用來對零部件在鍍制過程、運輸過程以及使用過程中形成的缺陷和損傷進行磁控濺射修復,可以非常經(jīng)濟且有效地實現(xiàn)對超長、超大零件的修復,但是該裝置沒有對其加熱裝置的具體說明,無法確定其工作溫度精度,降低其修復零件的品質(zhì)的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種用于修復零件鍍層缺陷磁控濺射裝置的加熱機構(gòu),包括保護外殼,所述保護外殼的左右側(cè)壁均開設(shè)有安裝卡槽,所述安裝卡槽的內(nèi)腔隼接有安裝定位板,所述保護外殼的外壁設(shè)置有溫控開關(guān),所述保護外殼內(nèi)腔的底部設(shè)置有絕緣隔熱板,所述絕緣隔熱板的頂部均勻設(shè)置有電阻加熱絲,所述電阻加熱絲的頂部設(shè)置有絕緣導熱板,所述絕緣導熱板的頂部設(shè)置有加熱平臺,且加熱平臺的頂部高于保護外殼的頂部,所述加熱平臺的內(nèi)腔均勻鑲嵌有溫度傳感器,所述電阻加熱絲和溫度傳感器均通過溫控開關(guān)與外部電源電性連接。
優(yōu)選的,所述安裝定位板的左右兩側(cè)均開設(shè)有隼接卡槽,所述安裝定位板的頂部均勻開設(shè)有定位螺孔。
優(yōu)選的,所述加熱平臺的左右側(cè)壁均開設(shè)有定位卡槽,所述加熱平臺的前后側(cè)壁均設(shè)置有帶孔的固定板。
優(yōu)選的,所述絕緣隔熱板為陶瓷絕緣隔熱板,所述絕緣導熱板為云母片絕緣導熱板。
優(yōu)選的,所述加熱平臺為帶槽純銅加熱板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





