[實(shí)用新型]氣體分配組件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720975030.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207376114U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·約德伏斯基;K·格里芬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 分配 組件 | ||
1.一種氣體分配組件,其特征在于,包括輸出面和至少一個(gè)傳感器,所述輸出面具有用于引導(dǎo)氣流的多個(gè)細(xì)長(zhǎng)的氣體端口,所述至少一個(gè)傳感器經(jīng)定位以在測(cè)量期間接觸基座組件。
2.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,進(jìn)一步包括支桿,所述支桿連接至基部,所述基部經(jīng)固定使得所述支桿能在不接觸的位置與接觸位置之間移動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的氣體分配組件,其特征在于,所述至少一個(gè)傳感器連接至所述支桿,使得所述傳感器能在所述支桿上的不接觸的位置與接觸位置之間被移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,所述至少一個(gè)傳感器定位在所述氣體端口中的一個(gè)氣體端口內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,所述多個(gè)細(xì)長(zhǎng)的氣體端口包括第一反應(yīng)氣體端口、第二反應(yīng)氣體端口、凈化氣體端口和至少一個(gè)真空端口。
6.如權(quán)利要求5所述的氣體分配組件,其特征在于,所述至少一個(gè)傳感器定位在凈化氣體端口內(nèi)。
7.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,所述氣體分配組件進(jìn)一步包括至少一個(gè)孔,所述至少一個(gè)孔位于所述氣體分配組件的不暴露于反應(yīng)氣體的區(qū)域中,并且所述至少一個(gè)傳感器定位在所述孔內(nèi)。
8.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,所述至少一個(gè)傳感器包括接觸式熱電偶。
9.如權(quán)利要求7所述的氣體分配組件,其特征在于,所述接觸式熱電偶從不接觸的位置移動(dòng)至用于測(cè)量的接觸位置。
10.如權(quán)利要求9所述的氣體分配組件,其特征在于,具有用于測(cè)量溫度的至少兩個(gè)傳感器,至少一個(gè)傳感器定位在所述氣體分配組件的內(nèi)周邊緣附近,并且至少一個(gè)傳感器定位在所述氣體分配組件的外周邊緣附近。
11.如權(quán)利要求1所述的氣體分配組件,其特征在于,進(jìn)一步包括控制器,所述控制器與所述至少一個(gè)傳感器通信以分析來(lái)自所述傳感器的數(shù)據(jù)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





