[實用新型]一種刻蝕機去水氣裝置的升降機構

有效

• 申請號: 201720968082.8
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN207353206U
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 嚴攀
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 楊立;李蕾

1.一種刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，包括去水氣裝置本體(1)、雙作用氣缸(4)和晶元壓頭(5)；

所述去水氣裝置本體(1)內部具有豎直設置并可上下移動的滑桿(11)；

所述雙作用氣缸(4)豎向設置，其缸體(41)通過連接件(3)安裝在所述水氣裝置本體(1)的下端，所述雙作用氣缸(4)內具有與所述滑桿(11)同軸設置的伸縮臂(42)；

所述伸縮臂(42)的上端通過高度可調的連接組件(2)與所述滑桿(11)的下端連接；

所述晶元壓頭(5)安裝在所述伸縮臂(42)的下端端部，所述晶元壓頭(5)隨所述伸縮臂(42)上下移動。

2.根據權利要求1所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，所述連接件(3)包括多根間隔均勻且環狀分布于所述水氣裝置本體(1)的下端的拉桿，每根所述拉桿下端均與所述缸體(41)的上端連接。

3.根據權利要求1所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，所述連接組件包括連接頭(21)和浮動接頭(22)，所述連接頭(21)上端與所述滑桿(11)的下端連接，所述連接頭(21)的下端與所述浮動接頭(22)的上端連接。

4.根據權利要求3所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，所述浮動接頭(22)上端端部沿軸向設有螺孔，所述連接頭(21)為圓柱體形，其下端外周上設有與浮動接頭(22)上端螺孔相配合的外螺紋，所述連接頭(21)的下端螺紋安裝在所述浮動接頭(22)上端的螺孔內，所述連接頭(21)與所述浮動接頭(22)連接處之間還套設有用以調節所述連接頭(21)下端與浮動接頭(22)上端螺孔連接深度的第一墊圈(23)。

5.根據權利要求4所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于， 還包括限位抵接組件，所述限位抵接組件設置于所述缸體下端，

所述晶元壓頭(5)側壁中部環設有與所述限位抵接組件(6)相配合的環形的限位塊(51)；

所述限位抵接組件(6)包括自上向下依次固定在所述缸體(41)下端端部的抵接塊(61)和第二墊圈(62)，所述抵接塊(61)中部設有供所述伸縮臂(42)的下端穿過的通孔；

所述伸縮臂(42)向上移動時，帶動所述晶元壓頭(5)上升至所述限位塊(51)與所述抵接塊(61)抵接。

6.根據權利要求4所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，還包括限位抵接組件，所述限位抵接組件(6)包括旋鈕(63)和螺帽(64)組成，所述旋鈕(63)為上端開口的中空圓柱體，其底端同軸設有與所述晶元壓頭(5)相配合的通孔，所述晶元壓頭(5)為圓柱形，其外周上設置有外螺紋，所述通孔內壁設有與所述晶元壓頭(5)外螺紋相配合的內螺紋，所述旋鈕(63)螺紋安裝在所述晶元壓頭(5)外周上，所述螺帽(64)螺紋安裝在所述晶元壓頭(5)的下端外周上，并與所述旋鈕(63)的下端抵接。

7.根據權利要求5或6中任一項所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，所述浮動接頭(22)的側壁的中部環設有凸塊，所述浮動接頭(22)隨伸縮臂(42)向下運動過程中所述凸塊的下端面與缸體(41)上端抵接。

8.根據權利要求7所述的刻蝕機去水氣裝置的升降機構，其特征在于，所述伸縮臂(42)的伸縮長度為8-12mm。