[實用新型]用于激光制樣?質譜氧同位素組成分析的激光池裝置

有效

• 申請號: 201720962556.8
• 申請日: 2017-08-03
• 公開（公告）號: CN207095944U
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發明（設計）人: 石曉;劉漢彬;張建鋒;金貴善;李軍杰;韓娟;張佳
• 申請（專利權）人: 核工業北京地質研究院
• 主分類號: G01N1/34
• 分類號: G01N1/34;G01N1/44;G01N27/62
• 代理公司: 核工業專利中心11007
• 代理人: 閆兆梅

1.用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：該裝置包括激光窗上法蘭(2)、激光窗(4)、激光腔上腔體(6)、第一真空管路(7)、第二真空管路(8)、樣品池(12)、激光腔下腔體(13)和激光池底座(15)，激光腔上腔體(6)上方設有激光窗上法蘭(2)，激光腔上腔體(6)與激光窗上法蘭(2)之間設有激光窗(4)，第一真空管路(7)、第二真空管路(8)對稱設在激光腔上腔體(6)兩側，激光腔上腔體(6)下方設有激光腔下腔體(13)，激光腔下腔體(13)下部內放置樣品池(12)，激光腔下腔體(13)底部放置在激光池底座(15)上。

2.根據權利要求1所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的激光腔上腔體(6)與激光窗上法蘭(2)內側之間形成環形凹槽，激光窗(4)的邊緣嵌在該環形凹槽內。

3.根據權利要求2所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的激光窗(4)與激光腔上腔體(6)之間通過八個內六角螺栓(1)固定連接。

4.根據權利要求3所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的第一真空管路(7)、第二真空管路(8)對稱設置在激光腔上腔體(6)的1/2高度位置，且第一真空管路(7)、第二真空管路(8)均與激光腔上腔體(6)內部連通。

5.根據權利要求4所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的激光腔上腔體(6)與激光腔下腔體(13)之間通過卡箍(11)固定連接。

6.根據權利要求5所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的樣品池(12)的上表面覆蓋有蓋樣片(10)。

7.根據權利要求6所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的樣品池(12)具有一個中心孔和均勻分布的36個小孔，該中心孔內具有螺紋。

8.根據權利要求7所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的樣品池(12)的中心孔內設有樣品池提取器(14)，樣品池提取器(14)具有與中心孔相匹配的外螺紋。

9.根據權利要求8所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的激光池底座(15)外部為正方形，激光池底座(15)內部為中空的臺階圓柱孔，上部圓柱孔的直徑大于下部圓柱孔的直徑，激光池底座(15)的四角各開有一個圓孔，用于激光池底座(15)與實驗臺之間的固定；激光腔下腔體(13)和樣品池(12)底部均放置在激光池底座(15)圓柱孔的臺階上。

10.根據權利要求9所述的用于激光制樣-質譜氧同位素組成分析的激光池裝置，其特征在于：所述的激光窗(4)上端面與激光窗上法蘭(2)之間設有第一氟橡膠O形圈(3)，所述的激光窗(4)下端面與激光腔上腔體(6)之間設有第二氟橡膠O形圈(5)，激光腔上腔體(6)與激光腔下腔體(13)連接處放置第三氟橡膠O形圈(9)。