[實用新型]一種薄膜天線

有效

• 申請號: 201720947288.2
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN206976575U
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 汪際軍
• 申請（專利權）人: 全普光電科技（上海）有限公司
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q5/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種薄膜天線，其特征在于，包括：

一絕緣襯底層；

位于絕緣襯底層中的金屬互連線，用于對納米天線層的信號進行傳輸；

位于絕緣襯底層表面的納米天線層；其中，納米天線層底部通過金屬接觸線與金屬互連線連接；

位于納米天線層之間的介質；

位于納米天線層上的覆蓋層。

2.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述納米天線層中的納米天線具有一個恒定圖案天線和多個以這個恒定圖案天線放大或縮小的變換圖案天線。

3.根據權利要求2所述的薄膜天線，其特征在于，以所述恒定圖案天線為基準，將所述恒定圖案天線按遞增或遞減順序放大為多個變換圖案天線，將多個變換圖案天線按照尺寸從小到大順序且將頂端對齊到同一直線上排列。

4.根據權利要求3所述的薄膜天線，其特征在于，相鄰的變換圖案天線的頂端在同一直線上、且相鄰的變換圖案天線中的一個變換圖案天線與另一個變換圖案天線呈180°相對設置。

5.根據權利要求2所述的薄膜天線，其特征在于，所述恒定圖案天線呈弧形軌跡排布。

6.根據權利要求5所述的薄膜天線，其特征在于，所述恒定圖案天線為波浪線且以弧形為軌跡排列。

7.根據權利要求5所述的薄膜天線，其特征在于，所述弧形為半圓形。

8.根據權利要求5所述的薄膜天線，其特征在于，每根所述納米天線的一端底部與所述金屬接觸線頂部相連接。

9.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述金屬接觸線由金屬接觸孔結構構成；金屬接觸孔結構形成于絕緣襯底層中，其一端與納米天線層底部連接，另一端穿過絕緣襯底層與金屬互連線連接。

10.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述金屬互連線的線寬和所述金屬接觸線的直徑相同。

11.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述金屬互連線的材料為銅，所述金屬接觸線的材料為銅。

12.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，在所述納米天線層底部設置有封閉空腔，且封閉空腔位于所述金屬互連線與所述納米天線層之間的絕緣襯底層中。

13.根據權利要求12所述的薄膜天線，其特征在于，在封閉空腔頂部且在納米天線層底部設置有至少一條介質梁，用于支撐納米天線層。

14.根據權利要求13所述的薄膜天線，其特征在于，所述納米天線的一端底部與金屬接觸線接觸的位置均設置于納米天線層的一側，至少一條介質梁設置于所述納米天線層的另一側底部。

15.根據權利要求12所述的薄膜天線，其特征在于，所述封閉空腔呈扁平結構。

16.根據權利要求12所述的薄膜天線，其特征在于，每根所述金屬接觸線的一端與相應的天線的端相連接，另一端穿過所述封閉空腔至絕緣襯底層中，且另一端與金屬互連線相連接。

17.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述納米天線層的材料為單層石墨烯薄膜。

18.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述絕緣襯底層的材料為有機屏蔽材料。

19.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述覆蓋層的材料為氧化石墨烯薄膜。

20.根據權利要求1所述的薄膜天線，其特征在于，所述介質的材料為空氣或低損耗高頻介質。