[實用新型]一種上部電極天板及干法刻蝕設備有效
| 申請號： | 201720944530.0 | 申請日： | 2017-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN207038479U | 公開（公告）日： | 2018-02-23 |
| 發明（設計）人： | 趙吾陽;廖鵬宇;歐飛;彭軍;宋亮 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 | 代理人： | 郭潤湘 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 上部 電極 刻蝕 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種上部電極天板，用于干法刻蝕，其特征在于，所述上部電極天板具有多個拼接塊。
2.根據權利要求1所述的上部電極天板，其特征在于，每一所述拼接塊具有多個氣孔。
3.根據權利要求2所述的上部電極天板，其特征在于，所述多個拼接塊上的氣孔的數量不完全相同。
4.根據權利要求2或3所述的上部電極天板，其特征在于，每一所述拼接塊上的氣孔均勻分布。
5.根據權利要求1所述的上部電極天板，其特征在于，所述上部電極天板具有12個拼接塊。
6.根據權利要求5所述的上部電極天板，其特征在于，每3個所述拼接塊呈三角形分布，所述12個上部電極天板分布在四個區域，所述四個區域構成的圖形為矩形。
7.一種干法刻蝕設備，其特征在于，包括：權利要求1～6任一所述的上部電極天板。
8.根據權利要求7所述的干法刻蝕設備，其特征在于，還包括下部電極，以及位于所述上部電極天板和所述下部電極之間的耦合線圈。
9.根據權利要求8所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述耦合線圈分區域設置，耦合線圈所處區域與所述拼接塊所處區域相對應。
10.根據權利要求8所述的干法刻蝕設備，其特征在于，還包括：控制器，用于單獨控制每一所述拼接塊與所述下部電極之間的電場強度。
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