[實用新型]一種高方阻波浪分切金屬化薄膜

有效

• 申請號: 201720932849.1
• 申請日: 2017-07-29
• 公開（公告）號: CN207052453U
• 公開（公告）日: 2018-02-27
• 發明（設計）人: 汪祥久
• 申請（專利權）人: 昆山泓電隆泰電子材料有限公司
• 主分類號: H01G4/005
• 分類號: H01G4/005;H01G4/008;H01G4/06;H01G4/33
• 代理公司: 南京常青藤知識產權代理有限公司32286
• 代理人: 黃胡生

技術領域

本實用新型屬于金屬化薄膜領域，具體涉及一種高方阻波浪分切金屬化薄膜。

背景技術

隨著電容器廣泛應用，有些電容器需要具較高的電容電阻，方阻是衡量電容電阻的指標；方阻就是方塊電阻，指一個同長同寬(也就是一個正方形)的條件下的金屬化薄膜鍍層表面邊到邊之間的電阻。現有的金屬化薄膜一般通過改變金屬化薄膜的材質提高方阻值，但此類產品成本高，難以推廣普及，無法滿足高方阻金屬化薄膜的需求。

實用新型內容

針對以上不足，本實用新型的目的提供一種高方阻波浪分切金屬化薄膜，具有較高的方阻值，以滿足高方阻金屬化薄膜的需求。

本實用新型提供了如下的技術方案：

一種高方阻波浪分切金屬化薄膜，包括基膜和金屬層，所述基膜上設有金屬層，所述金屬層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形。

優選的，所述金屬層包括鋁層，所述鋁層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形。

優選的，所述金屬層還包括鋅層，所述鋅層設于所述鋁層上方，所述鋅層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形。

優選的，所述基膜一側邊緣位于所述金屬層上方設有加厚層。

優選的，所述基膜的另一側邊緣留有余邊。

本實用新型的有益效果：

(1)本實用新型通過波浪形的金屬層，提高金屬層的電阻，進而可增加金屬化薄膜的方阻值；

(2)本實用新型通過加厚層可將金屬化薄膜與電容器的噴金層良好接觸，確保金屬化薄膜工作的可靠性。

附圖說明

附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本實用新型的實施例一起用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型的限制。在附圖中：

圖1為本實用新型第一實施例主視圖；

圖2為本實用新型第一實施例側視圖；

圖3為本實用新型第三實施例前視圖。

圖中標記為：1、基膜；2、鋁層；3、鋅層；4、加厚層；5、余邊。

具體實施方式

實施例一：

如圖1和圖2所示，一種高方阻波浪分切金屬化薄膜，包括基膜1和金屬層，基膜1上設有金屬層，金屬層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形；通過波浪形的金屬層，可提高金屬層的過電長度；

由電阻其中l為導體長度，可知導體長度l與電阻R成正比，

故通過波浪形的金屬層可提高金屬化薄膜的方阻值。

本實用新型的優點：

通過波浪形的金屬層，增加金屬層的導電長度，進而可增加金屬化薄膜的方阻值，且成本底，易于推廣，可滿足高方阻金屬化薄膜的需求。

實施例二：

如圖1和圖2所示，一種高方阻波浪分切金屬化薄膜，包括基膜1和金屬層，基膜1上設有金屬層，金屬層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形；通過波浪形的金屬層，可提高金屬層的過電長度；

由電阻其中l為導體長度，可知導體長度l與電阻R成正比，

故通過波浪形的金屬層可提高金屬化薄膜的方阻值；

其中，金屬層包括鋁層2，鋁層2的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形，采用鋁材質制成，可制成鋁金屬化薄膜，鋁附著力良好，且鋁與空氣可生成致密的氧化物(三氧化二鋁)，阻止內層繼續被氧化，因此鋁金屬化薄膜性能穩定、使用壽命長，且通過波浪形的鋁層2，可提高金屬層的過電長度，進而可提高金屬化薄膜的方阻值。

本實用新型的優點：

(1)通過波浪形的金屬層，增加金屬層的導電長度，進而可增加金屬化薄膜的方阻值，成本底，易于推廣，可滿足高方阻金屬化薄膜的需求；

(2)鋁與空氣可生成致密的氧化物(三氧化二鋁)，可阻止內層繼續被氧化，避免氧化引起的電性能參數的改變，因此本實用新型性能穩定、使用壽命長。

實施例三：

如圖1和圖2所示，一種高方阻波浪分切金屬化薄膜，包括基膜1和金屬層，基膜1上設有金屬層，金屬層的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形；通過波浪形的金屬層，可提高金屬層的過電長度；

由電阻其中l為導體長度，可知導體長度l與電阻R成正比，

故通過波浪形的金屬層可提高金屬化薄膜的方阻值；

其中，金屬層包括鋁層2，鋁層2的橫截面為沿豎直方向擺動的波浪形，采用鋁材質制成，可制成鋁金屬化薄膜，鋁附著力良好，且鋁與空氣可生成致密的氧化物(三氧化二鋁)，阻止內層繼續被氧化，因此鋁金屬化薄膜性能穩定、使用壽命長，且通過波浪形的鋁層2，可提高金屬層的過電長度，進而可提高金屬化薄膜的方阻值。