[實用新型]一種在硅圓片上單片集成微型光譜儀結構有效
| 申請號: | 201720926679.6 | 申請日: | 2017-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN207487824U | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發明(設計)人: | 寧文果;郭方敏 | 申請(專利權)人: | 華東師范大學 |
| 主分類號: | G01J3/18 | 分類號: | G01J3/18 |
| 代理公司: | 上海藍迪專利商標事務所(普通合伙) 31215 | 代理人: | 徐筱梅;張翔 |
| 地址: | 200241 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光譜儀 本實用新型 傳感器凹槽 表面沉積 光學結構 集成微型 熱隔離層 硅圓片 上單片 硅柱 金層 鋁層 入射 鈦層 沉積氮化硅層 沉積氧化硅層 紅外傳感器 氮化硅層 光線垂直 光學路徑 硅片平面 厚度限制 色散系統 氧化硅層 應用要求 單硅片 低成本 硅片 槽壁 槽口 沉積 兼容 | ||
1.一種在硅圓片上單片集成微型光譜儀結構,其特征在于單硅片上設有色散系統與紅外傳感器集成和兼容的光學結構(1),所述光學結構(1)由表面沉積金層(3)的硅柱(2)與表面沉積氧化硅層(5)、氮化硅層(6)、鈦層(7)和鋁層(8)的傳感器凹槽(4)組成;所述金層(3)沉積在硅柱(2)的外表面上;所述傳感器凹槽(4)為“V”形槽,其槽壁上設有熱隔離層(9),槽口兩側依次沉積氧化硅層(5)和鋁層(8);所述熱隔離層(9)上依次沉積氮化硅層(6)和鈦層(7);所述硅柱(2)和傳感器凹槽(4)為刻蝕在單硅片上集成和兼容的光學結構;所述沉積金層(3)的硅柱(2)將硅圓片平面方向進入的入射光,分光后到達傳感器凹槽(4)表面沉積的鈦層(7)和鋁層(8)上進行紅外光的探測。
2.根據權利要求1所述在硅圓片上單片集成微型光譜儀結構,其特征在于所述熱隔離層(9)由氧化硅層釋放所形成的懸空結構。
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