[實用新型]光波導薄膜及陣列波導光柵

有效

• 申請號: 201720924646.8
• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN207216077U
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發明（設計）人: 王明利;曹華燕;周培
• 申請（專利權）人: 深圳正和捷思科技有限公司
• 主分類號: G02B6/12
• 分類號: G02B6/12
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所44287
• 代理人: 胡海國

技術領域

本實用新型涉及光波導薄膜和應用該光波導薄膜的陣列波導光柵。

背景技術

現有技術中的硅基底層二氧化硅薄膜，以包裹有二氧化硅作為薄層材料，其制備工藝采用火焰水解法、熱氧化法或等離子體氣相沉積法等，然后通過摻雜制備高折射率材料，由于硅和SiO₂熱膨脹系數不同，在熱處理過程中SiO₂易從硅襯底上脫落或發生卷曲。

實用新型內容

本實用新型的主要目的是提供一種光波導薄膜，旨在解決硅基與二氧化硅之間發生脫落或卷曲的缺陷。

為實現上述目的，本實用新型提出的一種光波導薄膜，應用于陣列波導光柵，其特征在于，所述光波導薄膜包括硅基底層和設于所述硅基底層一側的二氧化鋯芯層、及包裹于所述二氧化鋯芯層外表面的二氧化硅層，所述二氧化硅層與所述硅基底層層之間還設有連接層，所述連接層采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一項，所述連接層在波長為0.750um-1.55um范圍內為透明，且折射率為1.40-1.70。。

可選地，連接層采用聚甲基丙烯酸甲酯，其在波長為0.80um-1.50um范圍內為透明，且折射率為1.40-1.58。

可選地，連接層的厚度值為18um-20um。

可選地，連接層的厚度值為19um。

可選地，二氧化鋯芯層的厚度值為4.5um-5.5um。

可選地，二氧化鋯芯層的厚度值為5um。

可選地，二氧化硅層的厚度值為2.5um-3.5um。

可選地，二氧化硅層的厚度值為3um。

可選地，硅基底層背離所述二氧化鋯層的一側還設有硬涂層，所述硬涂層的厚度為5um。

本實用新型還提供一種陣列波導光柵，包括光波導薄膜，其中該光波導薄膜包括硅基底層和設于所述硅基底層一側的二氧化鋯芯層、及包裹于所述二氧化鋯芯層的二氧化硅層，所述二氧化硅層與所述硅基底層層之間還設有連接層，所述連接層采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一項或其任意項組合的混合物，所述連接層在波長為0.750um-1.55um范圍內為透明，且折射率為1.40-1.70。

本實用新型技術方案的光波導薄膜結構通過在硅基底層和二氧化硅層之間設置連接層，該連接層采用的的材質為聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一項，其質輕性柔，當對二氧化硅層和硅基底層進行熱處理時，連接層可有效銜接二氧化硅層和硅基底層，避免二氧化硅層和硅基底層之間直接接觸時，因為熱膨脹系數差異較大導致脫落或卷曲的缺陷發生。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型光波導薄膜一實施例的結構示意圖。

附圖標號說明：