[實用新型]一種阻隔膜有效
| 申請號： | 201720912064.8 | 申請日： | 2017-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN207250549U | 公開（公告）日： | 2018-04-17 |
| 發明（設計）人： | 馬志鋒;程武;張莉;杜曉峰;孫官恩 | 申請（專利權）人： | 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應用技術有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/44 | 分類號： | H01L33/44 |
| 代理公司： | 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙)11400 | 代理人： | 葛強,鄔玥 |
| 地址： | 518067 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 阻隔 | ||
1.一種阻隔膜，其特征在于，包括：
基材，所述基材為柔性透明基材；
過渡層，設置在所述基材上；所述過渡層為硅層；
無機光學介質層，設置在所述過渡層背對于所述基材的一側；所述無機光學介質層為無機透明介質層。
2.如權利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，進一步包括：有機光學介質層，設置在所述無機光學介質層背對于所述過渡層的一側；所述有機光學介質層為高分子聚合物涂層。
3.如權利要求2所述的阻隔膜，其特征在于，所述有機光學介質層的厚度為0.5μm～3μm。
4.如權利要求1或2所述的阻隔膜，其特征在于，所述過渡層的厚度為0.5nm～2nm。
5.如權利要求1或2所述的阻隔膜，其特征在于，所述無機光學介質層的厚度為150nm～350nm。
6.如權利要求1或2所述的阻隔膜，其特征在于，所述硅層為純硅層，或者含有氧化硅的硅層。
7.如權利要求2所述的阻隔膜，其特征在于，所述無機光學介質層包括：一層無機層、兩層無機層、或者更多層無機層；任意兩層所述無機層的組分相同或者不同。
8.如權利要求7所述的阻隔膜，其特征在于，所述無機層包括以下至少之一：SiO2、Si3N4、SiON、Al2O3；和/或，
所述柔性透明基材包括以下至少之一：聚對苯二甲酸乙二醇酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚碳酸酯和三醋酸纖維素。
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