[實(shí)用新型]一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720900373.3 | 申請(qǐng)日： | 2017-07-24 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN207049434U | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-02-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 連加俤;孫富強(qiáng);許靜;王樂(lè)勤;趙煜文 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 艾迪機(jī)器（杭州）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | F16K51/02 | 分類號(hào)： | F16K51/02;F16K11/10;F16K31/20;F16K31/22;F16K27/02 |
| 代理公司： | 杭州云睿專利代理事務(wù)所(普通合伙)33254 | 代理人： | 張驍敏 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 平衡 保護(hù) 真空 裝置 | ||
1.一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：包括自吸管道(1)、真空破壞閥(2)、第一彈性球(6)、浮球防晃動(dòng)桿(7)、浮球(8)、浮球限位板(9)、進(jìn)口(10)、脈動(dòng)緩沖進(jìn)液漏斗(12)、過(guò)濾桶(13)、安全浮球(14)、浮球?qū)U(15)、彈性球密封閥座(17)、第二彈性球(18)、上蓋(21)、上殼體(22)、下殼體(23)、左殼體(24)和隔板(25)；所述上殼體(22)上方設(shè)有上蓋(21)，上殼體(22)下方通過(guò)螺栓連接有下殼體(23)，下殼體(23)左側(cè)設(shè)有左殼體(24)；所述上殼體(22)與下殼體(23)之間設(shè)有隔板(25)，隔板(25)與上殼體(22)螺栓連接，隔板(25)左下方連接左殼體(24)，隔板(25)左上方設(shè)有自吸管道(1)，自吸管道(1)上端設(shè)有真空破壞閥(2)；所述左殼體(24)內(nèi)部左側(cè)設(shè)有圓柱形腔體，所述圓柱形腔體內(nèi)設(shè)有安全浮球(14)；所述左殼體(24)內(nèi)部右側(cè)設(shè)有過(guò)濾桶(13)；所述上殼體(22)左上端設(shè)有自保護(hù)通氣口(5)；所述上蓋(21)與上殼體(22)形成的腔體內(nèi)設(shè)有第一彈性球(6)，第一彈性球(6)下方設(shè)有浮球?qū)U(15)，浮球?qū)U(15)穿過(guò)彈性球密封閥座(17)，彈性球密封閥座(17)下方設(shè)有第二彈性球(18)；所述浮球?qū)U(15)底部設(shè)有浮球(8)，浮球(8)兩側(cè)的下殼體(23)內(nèi)壁上設(shè)有浮球防晃動(dòng)桿(7)，浮球(8)下方設(shè)有浮球限位板(9)，浮球限位板(9)下方為脈動(dòng)緩沖進(jìn)液漏斗(12)，脈動(dòng)緩沖進(jìn)液漏斗(12)下方設(shè)有進(jìn)口(10)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述真空破壞閥(2)在真空低于設(shè)定值后打開(kāi)，所述設(shè)定值為-70kpa～-85kpa。
3.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述自保護(hù)通氣口(5)在第一彈性球(6)被頂開(kāi)后，進(jìn)行吸氣。
4.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述浮球限位板(9)上設(shè)有若干通孔，浮球限位板(9)安裝于下殼體(23)內(nèi)壁上。
5.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述脈動(dòng)緩沖進(jìn)液漏斗(12)與下殼體(23)之間的空腔為進(jìn)口脈動(dòng)緩沖腔(11)。
6.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述過(guò)濾桶(13)為L(zhǎng)形，過(guò)濾桶(13)豎直部分的四周設(shè)有若干圓形通孔，圓形通孔直徑為1.5～3.2mm。
7.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述彈性球密封閥座(17)內(nèi)部右上端設(shè)有通氣孔(16)。
8.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述上殼體(22)、左殼體(24)、隔板(25)之間形成的空腔為吸氣折彎通道(3)，上殼體(22)內(nèi)部左下方的橫向腔體為吸氣通道(4)。
9.如權(quán)利要求1所述的一種液位平衡自保護(hù)的真空裝置，其特征在于：所述左殼體(24)內(nèi)部左側(cè)的圓柱形腔體內(nèi)壁設(shè)有定位筋(19)，圓柱形腔體、安全浮球(14)、定位筋(19)之間的空間為氣流通道(20)。
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