[實用新型]反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置

有效

• 申請號: 201720874697.4
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN207066354U
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發明（設計）人: 郭文華;華強;王書昶;呂立豪;湯寒宇;唐寶文
• 申請（專利權）人: 常熟理工學院
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙)32204
• 代理人: 張俊范

1.一種反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：包括光源、出射光纖、入射光纖、第一三維位移平臺、第二三維位移平臺、光功率計和反射鏡，所述光源與出射光纖連接，光源的出射光進入所述出射光纖，所述入射光纖與光功率計連接，所述光功率計測量入射光纖接收的光的功率，所述出射光纖和入射光纖分別固定于所述第一三維位移平臺和第二三維位移平臺上，所述第一三維位移平臺和第二三維位移平臺設置于所述反射鏡的同側，所述出射光纖和入射光纖處于同一高度，出射光纖和入射光纖的端面處于同一平面內且平行于反射鏡，所述入射光纖用于接收由所述反射鏡反射的經過所述出射光纖的出射光。

2.根據權利要求1所述的反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：所述第一三維位移平臺和第二三維位移平臺設有螺旋測微儀，所述螺旋測微儀用于測量第一三維位移平臺和第二三維位移平臺的三軸位移量。

3.根據權利要求1所述的反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：所述第一三維位移平臺和第二三維位移平臺設有移動臺，所述移動臺設有凹槽，所述出射光纖固定于所述第一三維位移平臺的凹槽，所述入射光纖固定于所述第二三維位移平臺的凹槽。

4.根據權利要求3所述的反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：所述凹槽平行于第一三維位移平臺和第二三維位移平臺的三個移動軸之一。

5.根據權利要求1所述的反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：包括光學平臺，所述第一三維位移平臺和第二三維位移平臺固定安裝于所述光學平臺。

6.根據權利要求1所述的反射式光纖微位移傳感測量實驗裝置，其特征在于：所述光源為激光光源。