[實用新型]雙入射狹縫高分辨率成像光譜系統有效
| 申請號: | 201720842963.5 | 申請日: | 2017-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN207280591U | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發明(設計)人: | 朱雨霽;尹達一;魏傳新 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | G01J3/28 | 分類號: | G01J3/28;G01J3/02;G01J3/04 |
| 代理公司: | 上海滬慧律師事務所31311 | 代理人: | 李秀蘭 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 入射 狹縫 高分辨率 成像 光譜 系統 | ||
1.一種雙入射狹縫高分辨率成像光譜系統,包括雙入射狹縫(1)、凹面反射主鏡(2)、凸面反射光柵(3)、凹面反射次鏡(4)、校正透鏡(5)、濾光片(6)、面陣探測器(7),其中凹面反射主鏡(2)、凸面反射光柵(3)、凹面反射次鏡(4)、校正透鏡(5)構成分光子系統;濾光片(6)、面陣探測器(7)構成探測子系統,其特征在于:
系統光闌位于凸面反射光柵(3)上,來自目標的雙條帶型輻射信號經過前端望遠鏡系統后分別成像于雙入射狹縫(1)上,透過雙狹縫的輻射能量經由凹面反射主鏡(2),反射到凸面反射光柵(3)上,把不同波長的光分開,不同波長的光線在凸面反射光柵(3)反射出后,沿著不同的角度反射至凹面反射次鏡(4)上,經由凹面反射次鏡反射出,進入校正透鏡(5),最終經過濾光片(6)匯聚到面陣探測器(7)的不同位置;
所述的雙入射狹縫(1),對應兩個不同視場;
所述的凹面反射主鏡(2)、凹面反射次鏡(4)面型為球面;
所述的凸面反射光柵(3)的面型為球面;
所述的校正透鏡(5)為彎月形透鏡,材料為熔融石英。
2.根據權利要求1所述的一種雙入射狹縫高分辨率成像光譜系統,其特征在于:所述的探測子系統中,濾光片(6)為一塊來消除400nm~550nm處200nm~275nm的二級衍射光譜的馬賽克濾光片;面陣探測器(7)的像元尺寸為12um,像元數為6K×6K。
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