[實(shí)用新型]一種制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720842294.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207138838U | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張志峰;白月龍;關(guān)天洋;陳春生;張少明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號(hào): | B22D41/01 | 分類號(hào): | B22D41/01;B22D1/00;B22D41/60;B22D41/62 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11100 | 代理人: | 劉徐紅 |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 細(xì)晶均質(zhì) 鑄件 復(fù)合 處理 裝置 | ||
1.一種制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:該裝置由儲(chǔ)存大體積合金熔體的中間包、加熱單元、外置磁力發(fā)生器、冷卻器、輸液管、內(nèi)置磁力發(fā)生器和牽引機(jī)構(gòu)組成;所述的輸液管深入到中間包內(nèi)部,所述輸液管的入口端位于中間包的下部,所述的外置磁力發(fā)生器和冷卻器設(shè)置在中間包外部的輸液管外圍,所述的內(nèi)置磁力發(fā)生器設(shè)置在中間包內(nèi)部的輸液管外周,所述的加熱單元設(shè)置在中間包的頂部?jī)?nèi)側(cè),所述的牽引機(jī)構(gòu)固定在中間包下部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的輸液管設(shè)置于中間包的中部,所述輸液管的入口端接近中間包底部,距離中間包底部的距離10-20mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的內(nèi)置磁力發(fā)生器由產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)電磁力的繞組、產(chǎn)生行波電磁力的繞組和產(chǎn)生復(fù)合電磁力的繞組構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的內(nèi)置磁力發(fā)生器中繞組的安匝數(shù)為5000~20000At,頻率為0.5~100Hz。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的冷卻器安裝在輸液管出口端的外圍,所述的外置磁力發(fā)生器安裝在冷卻器的外圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的冷卻器的冷卻強(qiáng)度為500~5000W/(m2·k)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的外置磁力發(fā)生器由產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)電磁力的繞組構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的外置磁力發(fā)生器施加的剪切速率為10~2000s-1。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的儲(chǔ)存大體積合金熔體的中間包可儲(chǔ)存800Kg以上合金熔體。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備細(xì)晶均質(zhì)鑄件用復(fù)合熔體處理裝置,其特征在于:所述的合金熔體為鐵合金、鋁合金、鎂合金、銅合金或鈦合金。
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