[實用新型]富氧單元及具有該富氧單元的垃圾處理裝置

有效

• 申請號: 201720839782.7
• 申請日: 2017-07-12
• 公開（公告）號: CN207081012U
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 李勝然
• 申請（專利權）人: 李勝然
• 主分類號: F23G5/44
• 分類號: F23G5/44;F23L7/00
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務所有限公司33241
• 代理人: 林君勇

1.一種富氧單元，其特征在于包括外殼、兩個極性相反的磁體及一個由非導磁材料制成的固定框，所述外殼由頂板和若干側板構成，所述外殼側板處的橫向截面呈圍合形，所述頂板下端面與所述固定框上端面相固定，所述頂板形成有上下貫穿頂板的通孔，所述頂板與側板間形成有排氣槽一段，所述固定框外壁與側板內壁間形成有排氣槽二段，所述排氣槽一段與所述排氣槽二段相通，所述固定框橫向截面呈圍合形，所述固定框上下端均形成有供氣體通過的固定框開口，兩個磁體前后相對設置并固定于固定框內，且兩個磁體之間形成有與通孔相通的導氣槽，兩個磁體形狀結構相同，所述磁體均包括磁體上部和磁體下部，所述磁體下部的下端面呈由中間至左右兩側向上延伸的V形結構，兩個磁體相鄰的端面為磁體的內端面，兩個磁體相互遠離的端面為磁體的外端面，所述磁體下部的外端面和磁體上部的外端面在同一平面上，所述磁體下部的內端面至外端面間的距離由下至上逐漸增大，所述磁體下部內端面的所在平面與磁體上部內端面的所在平面形成有夾角，兩個磁體傾斜設置以使兩個磁體間的間距自下而上逐漸縮小。

2.根據權利要求1所述的富氧單元，其特征在于所述磁體下部的內端面的各處高度相同，所述磁體下部下緣中間處的高度低于所述磁體下部左端下緣的高度、低于所述磁體下部右端下緣的高度。

3.根據權利要求1所述的富氧單元，其特征在于所述固定框的左側壁內壁和右側壁內壁上均固定有定位件，當所述磁體固定于所述固定框內，所述定位件位于兩個磁體之間，且磁體上部的內端面均與所述定位件相接觸；所述固定框的左側壁和右側壁均形成有定位槽，定位槽內均可拆卸固定有一個所述定位件；所述定位槽包括左側壁上的左定位槽和右側壁上的右定位槽，所述定位件包括定位一部和定位二部，所述定位一部緊配于所述定位槽內，所述定位二部的形狀呈上窄下寬的等腰梯形結構設置；所述定位一部和定位二部均呈上窄下寬的等腰梯形結構設置，所述定位二部的上緣高度高于所述定位一部的上緣高度，所述定位二部的下緣高度低于所述定位一部的下緣高度；所述固定框的左側壁和右側壁均形成有一條向下延伸并貫穿所述固定框下端面的調節槽，所述調節槽向上延伸以與所述定位槽相通，所述定位件固定于所述定位槽內并使所述調節槽變形。

4.根據權利要求1所述的富氧單元，其特征在于所述固定框呈上下貫穿的圍合形結構，所述固定框的左側壁內壁和右側壁內壁均為平面結構，所述磁體固定于固定框內以使所述磁體被限制在所述固定框的左側壁與右側壁之間；所述磁體外端面與固定框之間填充有膠水，所述固定框前側壁和后側壁上均固定有緊固件，所述緊固件穿過固定框并與磁體下端面相接觸。

5.根據權利要求1所述的富氧單元，其特征在于所述固定框左側壁下端面和固定框右側壁下端面均至少由固定框下端面前段和固定框下端面后段構成，所述固定框的左側壁和固定框的右側壁均形成有第一讓位缺口，以使固定框下端面前段與固定框下端面后段構成有倒V形結構，所述磁體與固定框固定并使一個磁體的磁體下部的內端面位于固定框的固定框下端面前段下側、使另一個磁體的磁體下部的內端面位于固定框的固定框下端面后段下側。

6.根據權利要求5所述的富氧單元，其特征在于所述固定框固定于內殼內，所述內殼橫向截面呈圍合形結構并包覆在所述固定框外側，所述內殼由導磁材料制成，所述排氣槽二段位于內殼外壁與外殼內壁之間，所述內殼橫向截面內緣形狀和固定框橫向截面外緣形狀相同且均呈方形，所述內殼的左側壁和內殼的右側壁均形成有對應所述第一讓位缺口的第二讓位缺口，所述第二讓位缺口均呈倒V形，所述內殼下端四角處的下緣位于所述磁體下側。

7.根據權利要求1所述的富氧單元，其特征在于所述固定框的前側壁和固定框的后側壁均至少由固定框下端面左段和固定框下端面右段構成，所述磁體下部下端面由磁體下端面左段和磁體下端面右段構成，所述固定框下端面左段與固定框下端面右段構成的夾角與磁體下部的磁體下端面左段和磁體下端面右段構成的夾角的角度相同。