[實用新型]一種超快恢復二極管有效
| 申請號： | 201720838671.4 | 申請日： | 2017-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN207602578U | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發明（設計）人： | 張淑云 | 申請（專利權）人： | 天津天物金佰微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L29/868 | 分類號： | H01L29/868;H01L29/12;H01L29/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 300380 天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍銀層 金層 擴磷層 擴硼層 超快恢復二極管 本實用新型 二極管 研磨片 單晶 雕刻 生產周期 生產效率 生產成本 背面 | ||
【權利要求書】：
1.一種超快恢復二極管，包括擴磷層、單晶研磨片、擴硼層、金層、雕刻槽和鍍銀層，其特征在于：所述單晶研磨片的正面和背面分別與所述擴硼層和所述擴磷層相連，所述擴磷層通過所述金層與所述鍍銀層相連，所述擴硼層通過所述金層與所述鍍銀層相連，所述金層與所述鍍銀層相連界面上設置有所述雕刻槽。
2.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述擴磷層和所述單晶研磨片表面均設置有若干無規則的連接槽。
3.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述單晶研磨片的厚度為250微米-300微米，電阻率為5Ω-10Ω。
4.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述擴磷層厚度為20微米-40微米。
5.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述擴硼層厚度為80微米-100微米。
6.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述金層厚度為50埃-100埃。
7.根據權利要求1所述的一種超快恢復二極管，其特征在于：所述雕刻槽的深度為110微米。
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