[實用新型]一種硅片上下料的緩存機構有效
| 申請號: | 201720834247.2 | 申請日: | 2017-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN206970714U | 公開(公告)日: | 2018-02-06 |
| 發明(設計)人: | 王俊朝;李軍陽;李學文;劉兵吉 | 申請(專利權)人: | 深圳豐盛裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 深圳市深科信知識產權代理事務所(普通合伙)44422 | 代理人: | 彭光榮 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 上下 緩存 機構 | ||
1.一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:包括緩存盒、第一固定座、伸縮桿以及驅動裝置;
所述伸縮桿穿過于第一固定座,所述緩存盒固定在所述伸縮桿的頂端上,所述驅動裝置用于驅動伸縮桿帶動緩存盒往復運動;
所述的緩存盒包括第一橫板、第一豎向板以及第二豎向板,所述伸縮桿的頂端固定在第一橫板上;所述第一豎向板和第二豎向板的一端均垂直固定在第一橫板上,且第一豎向板和第二豎向板相對的側面上均設置有多個隔板,第一豎向板上相鄰隔板的間隙與第二豎向板上相鄰隔板的間隙之間用于插入硅片。
2.根據權利要求1所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述的驅動裝置包括伺服電機、絲桿、絲桿螺母以及第二固定座;
所述絲桿的底端連接在伺服電機的輸出軸上,絲桿的頂端轉動安裝在所述第一固定座上;所述的絲桿螺母設置于絲桿上,且該絲桿螺母固定在所述的第二固定座上,所述伺服電機用于驅動第二固定座往復運動;所述伸縮桿的底端固定在第二固定座上。
3.根據權利要求2所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述的驅動裝置還包括導向桿和導套;
所述導向桿的頂端固定在所述的第一固定座上,導向桿的底端固定在所述的伺服電機上;所述的導向桿穿過于導套,且所述導套固定在第二固定座上。
4.根據權利要求2所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述的驅動裝置還包括聯軸器和第三固定座,所述絲桿的底端轉動安裝在第三固定座上,所述的聯軸器用于將伺服電機的輸出軸與絲桿的底端進行連接。
5.根據權利要求4所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述第一固定座和第三固定座上均設置有一光電開關,所述第二固定座的上、下表面上均對應的固定安裝有一遮擋片。
6.根據權利要求1所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述硅片上下料的緩存機構還包括直線軸承,所述的伸縮桿從直線軸承中穿過,且直線軸承固定在所述的第一固定座上。
7.根據權利要求1所述的一種硅片上下料的緩存機構,其特征在于:所述硅片上下料的緩存機構還包括安裝板,所述的第一固定座固定在所述安裝板上,所述伸縮桿穿過于安裝板,所述驅動裝置位于安裝板下方。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





