[實用新型]一種雙面發(fā)電的帶本征薄層異質(zhì)結(jié)電池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720831713.1 | 申請日: | 2017-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN207409506U | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李平;洪承健;張津燕;徐希翔;李沅民 | 申請(專利權(quán))人: | 君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/075 | 分類號: | H01L31/075;H01L31/0352;H01L31/0224 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 銀柵線電極 多層透明導(dǎo)電薄膜 本征非晶硅層 透明導(dǎo)電薄膜 異質(zhì)結(jié)電池 雙面發(fā)電 薄層 本征 背面 透明導(dǎo)電氧化物 電流收集能力 本實用新型 低溫銀漿 依次層疊 由上到下 透光率 替代 柵線 遮擋 電池 | ||
一種雙面發(fā)電的帶本征薄層異質(zhì)結(jié)電池,包括:由上到下依次層疊的正面銀柵線電極(1)、正面透明導(dǎo)電氧化物TCO層(2)、N型非晶硅層(3)、第一本征非晶硅層(41)、N型或P型單晶硅片(5)、第二本征非晶硅層(42)、P型非晶硅層(6)、第一反面TCO層(81)、銀透明導(dǎo)電薄膜(7)和第二反面TCO層(82)。通過本實用新型實施例的方案,采用第一反面TCO層(81)、銀透明導(dǎo)電薄膜(7)和第二反面TCO層(82)組成的TCO?Ag?TCO多層透明導(dǎo)電薄膜來替代反面TCO層和反面銀柵線電極,減少了低溫銀漿的用量,降低了成本,采用TCO?Ag?TCO多層透明導(dǎo)電薄膜來替代反面TCO層和反面銀柵線電極,由于背面沒有柵線的遮擋,從而提高了HIT電池的背面透光率和電流收集能力。
技術(shù)領(lǐng)域
本文涉及但不限于硅基太陽能電池領(lǐng)域,尤指一種雙面發(fā)電的帶本征薄層異質(zhì)結(jié)電池。
背景技術(shù)
光伏發(fā)電是一種公認(rèn)的清潔能源,近年光伏發(fā)電得到國家政策的大力扶持。尤其是在高效太陽能電池領(lǐng)域,硅基高效帶本征薄層異質(zhì)結(jié)(HIT或HJT, Heterojunction withIntrinsic Thin-layer)電池因其具有光電轉(zhuǎn)換效率高、溫度系數(shù)低、無光衰、弱光性好等優(yōu)勢,受到國內(nèi)外的高度重視,且雙面發(fā)電的HIT電池在實際應(yīng)用中可以高出普通光伏電池(如晶硅電池)12%-30%的發(fā)電量,是降低度電成本的核心技術(shù)之一。
目前主流的雙面發(fā)電的HIT電池,采用預(yù)制有金字塔絨面的單晶硅片為核心,分別在單晶硅片的正面和反面沉積本征非晶硅鈍化層,在正面本征非晶硅鈍化層沉積N型非晶硅層,在反面本征非晶硅鈍化層沉積P型非晶硅層,之后在N型非晶硅層上制備正面透明導(dǎo)電氧化物(TCO,Transparent Conductive Oxide)層,在P型非晶硅層上制備反面TCO層,最后在正面TCO 層上印刷正面銀柵線電極,在反面TCO層上印制反面銀柵線電極。
上述雙目面發(fā)電的HIT電池中,由于TCO層的銦錫氧化物(ITO,Indium Tin Oxide)和銀柵線電極的低溫銀漿用量都較大(銀柵線電極需要通過將銀單質(zhì)的漿料經(jīng)過絲網(wǎng)印制而成,且銀柵線電極的厚度一般為微米級,導(dǎo)致銀漿消耗較多),導(dǎo)致HIT成本較高,且反面銀柵線電極遮擋太陽能吸收的面積,使得HIT電池的背面透光率和電流收集能力較差。
實用新型內(nèi)容
本實用新型實施例提出了一種雙面發(fā)電的帶本征薄層異質(zhì)結(jié)電池,能夠減少ITO和低溫銀漿的用量,從而提高HIT電池的背面透光率和電流收集能力,且降低成本。
本實用新型實施例提出了一種雙面發(fā)電的帶本征薄層異質(zhì)結(jié)電池,包括:
由上到下依次層疊的正面銀柵線電極1、正面透明導(dǎo)電氧化物TCO層2、 N型非晶硅層3、第一本征非晶硅層41、N型或P型單晶硅片5、第二本征非晶硅層42、P型非晶硅層6、第一反面TCO層81、銀透明導(dǎo)電薄膜7和第二反面TCO層82。
可選的,所述正面TCO層2為銦錫氧化物ITO層。
可選的,所述第一反面TCO層81或所述第二反面TCO層82為以下任意一種:
鋁摻雜氧化鋅AZO層、ITO層、摻氟的氧化錫FTO層。
可選的,所述正面TCO層2的厚度為5~80納米nm。
可選的,所述N型非晶硅層3的厚度為1~20nm。
可選的,所述第一本征非晶硅層41或所述第二本征非晶硅層42的厚度為1~20nm。
可選的,所述N型或P型單晶硅片5的厚度為70~300微米μm。
可選的,所述P型非晶硅層6的厚度為1~20nm。
可選的,所述第一反面TCO層81或所述第二反面TCO層82的厚度為 1~80nm。
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