[實用新型]一種應用于曝光機的對位平臺

有效

• 申請號: 201720828998.3
• 申請日: 2017-07-10
• 公開（公告）號: CN207081946U
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 曾凡亮;張超
• 申請（專利權）人: 深圳市君奕豪科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市深聯知識產權代理事務所(普通合伙)44357
• 代理人: 趙文曲

1.一種應用于曝光機的對位平臺，其特征在于，包括固定平臺、三個驅動軸和一個從動軸，所述三個驅動軸和所述從動軸以四邊形結構依次設置在固定平臺的四個方位上，每個驅動軸均連接有一個電機，所有驅動軸和從動軸上均設有可水平旋轉的旋轉機構，且各旋轉機構可沿驅動軸或從動軸所在方位左右移動，所述旋轉機構上設有滑臺，以及設置在滑臺中用于連接曝光機升降機構的微型導軌，以實現曝光機升降機構在XY方向的定位調整，以及在水平面的角度調整。

2.按照權利要求1所述的應用于曝光機的對位平臺，其特征在于，所述固定平臺的中間為鏤空結構，所述三個驅動軸和所述從動軸依次圍繞所述鏤空結構的邊沿設置在固定平臺上。

3.按照權利要求2所述的應用于曝光機的對位平臺，其特征在于，所述電機與所述驅動軸之間采用絲桿傳動連接。

4.按照權利要求1至3任一項所述的應用于曝光機的對位平臺，其特征在于，所述電機為伺服電機。