[實用新型]立式真空爐

有效

• 申請號: 201720823409.2
• 申請日: 2017-07-08
• 公開（公告）號: CN207095284U
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發明（設計）人: 嚴佐毅
• 申請（專利權）人: 深圳市匯美新科技有限公司
• 主分類號: F27B14/04
• 分類號: F27B14/04;F27B14/20;F27B14/10
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙)11265
• 代理人: 李鑫

技術領域

本實用新型涉及真空爐技術領域，特別涉及一種立式真空爐。

背景技術

現有技術中，立式真空爐一般包括爐體、爐架、爐蓋、工件的升降機構、真空系統、冷卻系統、電控系統等，可適用于通過將固體材料氣化后重新凝結獲取得到新的固體生成物這一生產工藝。傳統立式真空爐一般不分為兩室，即高溫室與凝結室共用一室，這樣一來，便很難實現高溫室和凝結室溫度的精確控制，且原料與產品容易混淆在一起，影響產品的質量。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于提出一種立式真空爐,旨在通過將爐體分隔為高溫室與凝結室，不僅可實現高溫室與凝結室溫度的精確控制，而且使得原料與產品分離，以利于提高產品質量。

為實現上述目的，本實用新型提供的一種立式真空爐，所述立式真空爐包括高溫室與凝結室，所述高溫室與所述凝結室依次上下相接設置，且所述高溫室與所述凝結室均真空密封設置；所述高溫室的底部設有高溫加熱坩堝結構，所述高溫加熱坩堝結構包括中空坩堝主體以及支撐盤，所述中空坩堝主體的底部設有連通所述凝結室的頂部的開口，所述開口的上方設有所述支撐盤，所述凝結室的外側設有第一冷卻水夾套。

可選地，所述高溫加熱坩堝結構還包括對所述中空坩堝主體的內部進行高溫加熱的微波感應加熱結構。

可選地，所述高溫加熱坩堝結構還包括對所述中空坩堝主體的內部進行高溫加熱的熱傳導加熱結構。

可選地，所述凝結室內置有旋轉刮板，以將所述凝結室的內壁上的凝結狀的生成物自動刮落。

可選地，所述旋轉刮板還設有造粒粗糙面，以對所述凝結室的內壁上的凝結狀的生成物進行粗糙化處理。

可選地，所述立式真空爐還包括帶出料口的出料室，所述凝結室的底部與所述出料室的頂部進行無縫相接連通設置，所述出料室整體呈漏斗式結構。

可選地，所述凝結室的一側側壁設有抽真空口，所述抽真空口與一真空泵連接。

可選地，所述凝結室的一側側壁設有保護氣體入口。

可選地，所述高溫室的外側設有第二冷卻水夾套。

本實用新型提供的一種立式真空爐,其通過將爐體分隔為高溫室與凝結室，以實現高溫室與凝結室溫度的精確控制，同時，高溫室的底部設有高溫加熱坩堝結構，高溫加熱坩堝結構包括中空坩堝主體以及支撐盤，中空坩堝主體的底部設有連通凝結室的頂部的開口，開口的上方設有該支撐盤，凝結室的外側設有第一冷卻水夾套，工作時，原材料壓制后直接置放于高溫加熱坩堝結構內的支撐盤上，通過該支撐盤可起到防止中空坩堝主體內的原材料掉入凝結室的作用，然后，對原材料進行高溫加熱氣化，使其發生化學反應，得到氣體狀的生成物，該氣體狀的生成物通過開口進入凝結室，在凝結室壁上凝結成為產品。可見，本立式真空爐可使得原料與產品分離，有利于提高產品質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例提供的立式真空爐的側面結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步說明。在此需要說明的是，對于這些實施方式的說明用于幫助理解本實用新型，但并不構成對本實用新型的限定。此外，下面所描述的本實用新型各個實施方式中所涉及的技術特征只要彼此之間未構成沖突就可以相互組合。

如圖1所示，本實用新型實施例提供一種立式真空爐100，該立式真空爐100包括高溫室110與凝結室120，高溫室110與凝結室120依次上下相接設置，且高溫室110與凝結室120均真空密封設置。高溫室110的底部設有高溫加熱坩堝結構111，高溫加熱坩堝結構111包括中空坩堝主體1111以及支撐盤1112，中空坩堝主體1111的底部設有連通凝結室120的頂部的開口1113，開口1113的上方設有支撐盤1112，凝結室120的外側設有第一冷卻水夾套121。

在本實施例中，如圖1所示，高溫加熱坩堝結構111還包括對中空坩堝主體的內部進行高溫加熱的微波感應加熱結構，工作時，微波感應加熱結構通過采用微波感應加熱的方式，對中空坩堝主體的內部以及整個高溫室110進行高溫加熱。對于本領域技術人員而言，該微波感應加熱結構亦可采用熱傳導加熱結構進行替代，以通過熱傳導加熱結構的熱傳導方式對中空坩堝主體以及整個高溫室110進行高溫加熱。