[實用新型]一種防溢式拼花石材有效
| 申請號: | 201720820830.8 | 申請日: | 2017-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN206903117U | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發明(設計)人: | 黃錦杰;黃曉煒 | 申請(專利權)人: | 惠安縣五月信息科技有限公司 |
| 主分類號: | E04F13/14 | 分類號: | E04F13/14;B44C1/26 |
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| 地址: | 362000 福建省泉*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防溢式 拼花 石材 | ||
技術領域
本實用新型涉及建筑石材技術領域,特別涉及一種防溢式拼花石材。
背景技術
目前,金屬和非金屬在石材加工中時常可見。加工最多的主要是樓梯踏步鑲銅條、不銹鋼條;實心圓柱柱身鑲不銹鋼板、鋁合金板;鑲金屬裝飾條;雕刻鑲銅板、金箔;石材金屬馬賽克、鋁合金盲人行步石、止步石,更多應用在帶銅板圖案的背景墻,地面拼花。將金屬裝飾與石材裝飾結合起來,打破石材產品傳統單一的裝飾面,可以創造出材料不同的復合裝飾效果。
然而,目前傳統的石材拼花工藝中,需要將石材雕刻出較深的凹槽,然后將厚實的金屬拼花鑲嵌在凹槽內以得到拼花石材,鑲嵌工藝復雜困難,生產效率低,大大增加了制作成本,而且生產過程中無法保證金屬的平整度,而且傳統工藝大多數時候使用半飽和聚酯樹脂的云石膠進行粘合,不具備結構承受力,長時間使用容易造成脫落現象。
申請號為201620187259.6的中國專利公開了一種拼花石材,包括石材本體和拼花,石材本體的表面雕刻設有呈幾何圖形狀的凹槽,所述的凹槽內鑲嵌設有拼花,所述拼花與凹槽之間通過環氧樹脂粘合;所述拼花石材的制作過程中是先繪制出拼花的CAD設計圖,再利用CAD設計圖并通過線切割將銅板、不銹鋼板或者貝殼切片按CAD設計圖切割出設計好的幾何圖形狀,然后利用CNC加工中心在石材的表面雕刻出與切割好的拼花形狀一致且深度略高于拼花厚度并可容納拼花的凹槽,然后在凹槽內涂覆環氧樹脂,將拼花放入凹槽內并利用高壓進行壓制排出空氣,使得拼花與凹槽之間沒有空鼓,并靜置使環氧樹脂完全固化,粘合后進行拋光打磨;所述拼花石材的結構減小了拼花厚度,可減少拼花材料用量,降低生產成本,但是拼花鑲嵌凹槽中時,環氧樹脂量控制不易,容易出現環氧樹脂外溢,影響拼花平整性,降低拼花美觀性,而且僅依靠環氧樹脂對拼花表面的附著,附著力低,易脫落。
實用新型內容
因此,針對上述的問題,本實用新型提出一種結構穩固性高,能夠有效避免拼花脫落現象,防止拼花制作過程中樹脂外溢現象的防溢式拼花石材。
為實現上述技術問題,本實用新型采取的解決方案為:一種防溢式拼花石材,包括石材本體和拼花,所述石材本體上設有用于鑲嵌拼花的鑲嵌凹槽,所述拼花的下表面上凸設有多個三棱錐凸起,所述三棱錐凸起的棱邊上開設有棱槽,所述三棱錐凸起的各棱槽在其頂點處相連通,各所述三棱錐凸起呈陣列排布;所述拼花的下表面通過環氧樹脂層與鑲嵌凹槽粘合。
進一步的是,所述拼花厚度為3-6mm;所述環氧樹脂的厚度為1-2 mm。
通過采用前述技術方案,本實用新型的有益效果是:所述防溢式拼花石材,拼花的下表面設有多個三棱錐凸起,各個三棱錐凸起之間能夠形成供樹脂流動擠入的流動緩存空間,樹脂具有流動空間,避免了平滑表面與環氧樹脂層附著時存在的樹脂外溢現象;同時,三棱錐凸起結構也提升了拼花下表面與環氧樹脂層的接觸面積,提升了環氧樹脂層與拼花下表面的附著粘合力,提升了結構穩定性,避免拼花脫落現象;進一步的,三棱錐凸起的棱邊開有棱槽,棱槽在頂點處相通,則在壓合拼花和環氧樹脂層時,三棱錐凸起的棱槽能夠由頂點處張開構成爪狀結構以緊緊抓合于環氧樹脂層,進一步的提升了拼花與環氧樹脂層的結合作用力,結構穩定性強;因此,所述防溢式拼花石材結構穩固性高,能夠有效避免拼花脫落現象,防止拼花制作過程中樹脂外溢現象,實用性高。
附圖說明
圖1是本實用新型實施例的結構示意圖。
圖2是本實用新型實施例拼花的結構示意圖。
圖3是本實用新型實施例拼花下表面的結構示意圖。
具體實施方式
現結合附圖和具體實施例對本實用新型進一步說明。
參考圖1至圖3,本實用新型實施例揭示的是,一種防溢式拼花石材,包括石材本體1和拼花2,所述石材本體1上設有用于鑲嵌拼花的鑲嵌凹槽,所述拼花2的下表面上凸設有多個三棱錐凸起21,所述三棱錐凸起21的棱邊上開設有棱槽22,所述三棱錐凸起21的各棱槽在其頂點處相連通,各所述三棱錐凸起21呈陣列排布;所述拼花2的下表面通過環氧樹脂層3與石材本體的鑲嵌凹槽粘合。
綜上所述設計的防溢式拼花石材,結構穩固性高,能夠有效避免拼花脫落現象,防止拼花制作過程中樹脂外溢現象,實用性高。
以上所記載,僅為利用本創作技術內容的實施例,任何熟悉本項技藝者運用本創作所做的修飾、變化,皆屬本創作主張的專利范圍,而不限于實施例所揭示者。
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