[實(shí)用新型]一種麻醉口罩

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720809240.5
• 申請(qǐng)日: 2017-07-06
• 公開（公告）號(hào): CN207118630U
• 公開（公告）日: 2018-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王帥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 王帥
• 主分類號(hào): A41D13/11
• 分類號(hào): A41D13/11
• 代理公司: 山東濟(jì)南齊魯科技專利事務(wù)所有限公司37108
• 代理人: 鄭向群

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及醫(yī)院麻醉技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種麻醉口罩。

背景技術(shù)

麻醉罩在手術(shù)中經(jīng)常用到，由于麻醉口罩能夠通過麻醉氣體對(duì)病人進(jìn)行麻醉，其麻醉效果較佳，麻醉計(jì)量調(diào)節(jié)也更加方便。為了避免麻醉氣體散出，對(duì)醫(yī)護(hù)人員造成影響，所述麻醉口罩都會(huì)與面部貼合，安全對(duì)病人進(jìn)行麻醉操作，但是口罩的舒適性以及密封型都有待提高。

發(fā)明內(nèi)容

為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種氣動(dòng)蝶閥。

本實(shí)用新型一種麻醉口罩，包括氣墊、上蓋、密封圈、約束帶，所述氣墊上端連接上蓋，底部?jī)?nèi)層連接密封圈，兩端連接約束帶，側(cè)面設(shè)置進(jìn)氣閥，上蓋包括氣密檢測(cè)連接管，連接管設(shè)置密封蓋，連接管連接氣密檢測(cè)儀。

進(jìn)一步地，所述氣墊內(nèi)層設(shè)置干燥層，干燥層內(nèi)部包括硅膠干燥劑。

進(jìn)一步地，所述上蓋包括兩個(gè)通氣孔，通氣孔與面部接合處連接密封圈。

進(jìn)一步地，所述連接管為錐形管，靠近密封蓋直徑較小。

進(jìn)一步地，所述密封蓋與連接管鉸接。

本實(shí)用新型一種麻醉口罩，與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單通過氣墊、上蓋、密封圈三者的結(jié)合提高密封效果

，有效防止麻醉氣體流出，通過上蓋設(shè)計(jì)氣密檢測(cè)連接管，連接管連接氣密檢測(cè)儀這種實(shí)時(shí)檢測(cè)的方式，提高了麻醉時(shí)醫(yī)護(hù)人員的安全性；本實(shí)用新型通過氣墊內(nèi)干燥層的設(shè)計(jì)，吸收了呼入氣體轉(zhuǎn)化的液體，提高了需要麻醉人員的舒適性；所述連接管采用錐形口設(shè)計(jì)便于和氣密檢測(cè)儀的連接；密封蓋設(shè)計(jì)方便與氣密檢測(cè)儀非連接狀態(tài)時(shí)的密封性。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。

1為氣墊、2為上蓋、3為密封圈、4為約束帶、5為進(jìn)氣閥、6為連接管、7為密封蓋、8為通氣孔。

具體實(shí)施方式

為了更好的理解本實(shí)用新型，下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的描述。

如圖1一種麻醉口罩，其特征在于：包括氣墊1、上蓋2、密封圈3、約束帶4，所述氣墊1內(nèi)層采用與面部相同的曲面設(shè)計(jì)，上端連接上蓋2，底部?jī)?nèi)層連接密封圈3，兩端連接約束帶4，側(cè)面設(shè)置進(jìn)氣閥5，上蓋2與鼻部和嘴部形狀設(shè)計(jì)相同包括氣密檢測(cè)連接管6，連接管6設(shè)置密封蓋7，連接管6連接氣密檢測(cè)儀。

優(yōu)先地，為了降低氣墊與面部接觸的舒適性，所述氣墊內(nèi)1層設(shè)置干燥層，干燥層內(nèi)部包括硅膠干燥劑

優(yōu)先地，為了麻醉氣體的連接以及病人的正常呼吸，所述上蓋包括兩個(gè)通氣8孔，一個(gè)通氣孔8為鼻孔裸漏的孔隙，一個(gè)為嘴巴呼吸孔，通氣孔8與面部接合處連接密封圈3。

優(yōu)選地，為了緊密連接以及密封性的保證，所述連接管6為錐形管，靠近密封蓋7直徑較小，所述密封蓋7與連接管6鉸接。

以上對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內(nèi)。