[實用新型]大面積X射線氣體探測器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720798010.3 | 申請日: | 2017-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN206906283U | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王永強;張清軍;李元景;趙自然;孫立風(fēng);白楠;翟興亮 | 申請(專利權(quán))人: | 同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/203 | 分類號: | G01N23/203 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11438 | 代理人: | 闞梓瑄,郜文剛 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大面積 射線 氣體探測器 | ||
1.一種大面積X射線氣體探測器,其特征在于,包括:
外殼,具有一內(nèi)腔,所述外殼具有一射線入口,所述射線入口連通至所述內(nèi)腔,且內(nèi)腔內(nèi)填充有工作氣體,所述工作氣體為對X射線敏感的非負(fù)電性氣體;
薄型的入射窗,密封連接于所述射線入口,用于使X射線進入所述內(nèi)腔;
信號收集模塊,包括相互平行地設(shè)置于所述內(nèi)腔內(nèi)的陽極絲電極層以及陰極漂移電極層,所述陽極絲電極層具有陽極絲,所述陽極絲用于接入高壓,所述陰極漂移電極層接地,所述陽極絲電極層收集所述工作氣體在X射線的作用下產(chǎn)生的電子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層設(shè)置有多層,多層所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層呈間隔設(shè)置并交互疊加,所述陽極絲電極層相互并聯(lián),所述陰極漂移電極層相互并聯(lián)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層各設(shè)置有一層,所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層之間還設(shè)置有一個屏柵電極層,所述屏柵電極層的電壓值介于所述陽極絲電極層和陰極電極層的電壓值之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述屏柵電極層包括金屬絲網(wǎng)或者腐蝕鏤空的金屬板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陽極絲電極層還包括陽極框架,所述陽極框架的相對兩側(cè)的框體上設(shè)有多個絕緣柱;所述陽極絲蛇形纏繞于多個所述絕緣柱,陽極絲兩端通過固定組件固定連接于所述陽極框架。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陰極漂移電極層包括表面具有導(dǎo)電層的超薄電路板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述導(dǎo)電層為全覆蓋于所述超薄電路板的正反兩面的井字形銅線層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陰極漂移電極層包括金屬絲網(wǎng)或腐蝕鏤空的金屬板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層平行于所述X射線的入射方向。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陽極絲電極層以及陰極漂移電極層垂直于所述X射線的入射方向。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述工作氣體為惰性氣體、多原子分子氣體或者由惰性氣體與多原子分子氣體組成的混合物。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述外殼上還設(shè)有與所述射線入口位置相對的底板,所述底板可拆卸地密封連接于所述外殼并與所述入射窗共同封閉所述內(nèi)腔。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述工作氣體的氣壓大于等于1個大氣壓。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述入射窗為電路板、金屬薄膜結(jié)構(gòu)或非金屬薄膜結(jié)構(gòu)中的一種。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一所述的大面積X射線氣體探測器,其特征在于,所述陰極漂移電極層雙面均勻涂覆有中子敏感材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于同方威視技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)同方威視技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720798010.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





