[實用新型]一種用于清洗石英擺片的水循環處理裝置

有效

• 申請號: 201720782236.4
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN207031132U
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發明（設計）人: 杜琨;張亞鵬
• 申請（專利權）人: 廊坊市北斗神舟測控儀器有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04
• 代理公司: 北京汲智翼成知識產權代理事務所(普通合伙)11381
• 代理人: 陳曦,董燁飛

1.種用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于包括第一出水單元、清洗單元、廢液收集單元及廢液處理單元，所述清洗單元的頂部設置有開口，所述開口正對所述第一出水單元，所述清洗單元通過第一管道與所述廢液收集單元連通，所述廢液收集單元通過第二管道與所述廢液處理單元連通；

所述廢液處理單元將收集的清洗石英擺片產生的廢液依次經過處理后，通過第三管道實現將處理后的廢液送入所述第一出水單元。

2.如權利要求1所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

所述廢液處理單元依次包括中和槽、去氟槽、一次沉淀槽、二次沉淀槽、蓄水槽，所述中和槽、所述去氟槽、所述一次沉淀槽、所述二次沉淀槽、所述蓄水槽通過相應的進口和出口實現相互連通，所述中和槽頂部設置的進口通過所述第二管道與所述廢液收集單元連通。

3.如權利要求2所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

所述中和槽頂部設置有第一計量泵，所述去氟槽頂部設置有第二計量泵，所述一次沉淀槽內設置有按預設比例配制好的絮凝劑，所述二次沉淀槽內設置有活性炭，所述蓄水槽內設置有壓力泵；所述壓力泵直接抽取所述蓄水槽內經處理的廢液，并通過所述第三管道送至所述第一出水單元。

4.如權利要求2所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

所述去氟槽、所述一次沉淀槽、所述二次沉淀槽、所述蓄水槽上方設置的進口分別距離所在槽的底部的高度依次減小。

5.如權利要求2所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

第一液位傳感器設置在距離所述廢液收集單元底部預設高度的位置。

6.如權利要求2所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

第二液位傳感器設置在距離所述中和槽底部預設高度的位置。

7.如權利要求1所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

清洗單元底部設置的出口處設置有第一電磁閥，所述廢液收集單元底部設置的出口處設置有第二電磁閥。

8.如權利要求5～7中任意一項所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

第一電磁閥、第二電磁閥、第一液位傳感器及第二液位傳感器分別與控制器連接，所述控制器采用PLC控制器。

9.如權利要求1所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

對應于所述清洗單元的所述開口位置設置第二出水單元，所述第二出水單元通過相應的管道與外部水源連接。

10.如權利要求1所述的用于清洗石英擺片的水循環處理裝置，其特征在于：

所述清洗單元采用清洗槽，所述廢液收集單元采用廢液收集槽，所述第一出水單元、第二出水單元均采用水龍頭，旋擰所述水龍頭以控制清洗所述石英擺片的水量。