[實用新型]具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件有效
| 申請號： | 201720775038.5 | 申請日： | 2017-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN206990839U | 公開（公告）日： | 2018-02-09 |
| 發明（設計）人： | 邱陽;陳瑋;金揚利;祖成奎;韓濱;徐博 | 申請（專利權）人： | 中國建筑材料科學研究總院 |
| 主分類號： | G02B1/113 | 分類號： | G02B1/113;G02B1/111;G02B1/10;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙)11348 | 代理人： | 王偉鋒,劉鐵生 |
| 地址： | 100024*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 電磁 屏蔽 性能 光學 元件 | ||
1.一種具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于：其包括：
硫系光學元件基層；
無機膜層，附著在所述的基層上；
有機涂層，附著在所述的無機膜層上；
石墨烯透紅外電磁屏蔽膜，附著在所述的有機涂層。
2.根據權利要求1所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的無機膜層的材料為SiO2、Al2O3或HfO2。
3.根據權利要求1所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的有機涂層的材料為聚酰亞胺樹脂或有機硅樹脂。
4.根據權利要求1所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的石墨烯透紅外電磁屏蔽膜為制備在銅箔上的低缺陷石墨烯薄膜。
5.根據權利要求2所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的無機膜層的材料為SiO2時，無機膜層的厚度為5-30nm。
6.根據權利要求2所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的無機膜層的材料為Al2O3時，無機膜層的厚度為10-25nm。
7.根據權利要求2所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的無機膜層的材料為HfO2時，無機膜層的厚度為10-30nm。
8.根據權利要求3所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的有機涂層為聚酰亞胺樹脂時，有機涂層的厚度為6-12μm。
9.根據權利要求3所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的有機涂層為有機硅樹脂時，有機涂層的厚度為8-12μm。
10.根據權利要求1所述的具有電磁屏蔽性能的硫系光學元件，其特征在于，所述的石墨烯透紅外電磁屏蔽膜的層數為3-10層。
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