[實用新型]光學調控電磁屏蔽玻璃

有效

• 申請號: 201720773605.3
• 申請日: 2017-06-29
• 公開（公告）號: CN206990837U
• 公開（公告）日: 2018-02-09
• 發明（設計）人: 邱陽;陳瑋;金揚利;祖成奎;韓濱;徐博
• 申請（專利權）人: 中國建筑材料科學研究總院
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G03F7/20;H05K9/00
• 代理公司: 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙)11348
• 代理人: 王偉鋒,劉鐵生

技術領域

本實用新型涉及一種電磁屏蔽玻璃，特別是涉及一種光學調控電磁屏蔽玻璃。

背景技術

電磁屏蔽玻璃是一類具有衰減電磁輻射功率功能的透光觀察視窗器件，應用于特種顯示領域時，能夠起到防止電磁信息泄露、抵抗外來電磁干擾的作用。傳統電磁屏蔽玻璃通常是在高溫高壓條件下利用有機膠片材料將“防眩/減反玻璃”、“電磁屏蔽材料”和“結構支撐玻璃”粘接在一起制成的，其工藝過程較為復雜，成品率相對較低。常用的電磁屏蔽材料主要包括ITO導電膜、刻蝕絲網及金屬網柵。其中，ITO導電膜具有較高的透光率，但其電導率相對較低，屏蔽效能差，僅能滿足屏效要求較低的應用要求；刻蝕絲網和金屬網柵具有相對較高的屏蔽效能，但其透光率會隨屏蔽效能的增強而迅速衰減，且存在由于光學干涉而產生的莫爾條紋現象，極大的限制了其應用途徑。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于，提供一種新型結構的光學調控電磁屏蔽玻璃，所要解決的技術問題是使其同時具有高光學透過率和高屏蔽效能，從而更加適于實用。

本實用新型的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本實用新型提出的一種結構的光學調控電磁屏蔽玻璃，其包括:

結構支撐玻璃；

無規則網格圖形的復合金屬膜層，附著在所述的結構支撐玻璃表面，復合金屬膜層包括過渡膜層和屏蔽金屬膜層，過渡膜層附著在所述結構支撐玻璃表面；其中，

所述的過渡膜層的材料為氧化鋁、鋁和鉻中的至少一種；所述的屏蔽金屬膜層的材料為金、銀、銅、鎳或鐵。

本實用新型的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的復合金屬膜層為：

鉻膜層和銅膜層；

氧化鋁膜層、鋁膜層、和銀膜層；

或鉻膜層和金膜層。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的過渡膜層的厚度為50-80nm；所述的屏蔽金屬膜層厚度為300-700nm。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的所述的結構支撐玻璃的厚度為0.7-4mm，光學透過率為89％-92％。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其包括：

結構支撐玻璃；

復合減反射膜，附著在所述結構支撐玻璃表面；

無規則網格圖形的復合金屬膜層，附著在所述的結構支撐玻璃另一表面，復合金屬膜層包括過渡膜層和屏蔽金屬膜層，過渡膜層附著在所述結構支撐玻璃表面；其中，

所述的過渡膜層的材料為氧化鋁、鋁和鉻中的至少一種；所述的屏蔽金屬膜層的材料為金、銀、銅、鎳或鐵。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的復合減反射膜的單面反射率為0.5％-1.0％。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的復合減反射膜包括：

二氧化硅膜，附著在結構支撐玻璃的另一表面，厚度為60-100nm；

三氧化鋁膜，附著在所述二氧化硅膜上，厚度為50-200nm；

鈦酸鑭膜、鈦酸鍶膜、三氧化二鉭膜或二氧化鈦膜，附著在所述三氧化鋁膜上，厚度為80-260nm；

氟化鎂膜，附著在所述氟化鎂膜上，厚度為70-110nm。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其包括：

結構支撐玻璃，一表面為經防眩處理的亞光面；

無規則網格圖形的復合金屬膜層，附著在所述的結構支撐玻璃另一表面，復合金屬膜層包括過渡膜層和屏蔽金屬膜層，過渡膜層附著在所述結構支撐玻璃表面；其中，

所述的過渡膜層的材料為氧化鋁、鋁和鉻中的至少一種；所述的屏蔽金屬膜層的材料為金、銀、銅、鎳或鐵。

優選的，前述的光學調控電磁屏蔽玻璃，其中所述的亞光面的霧都為2％-20％，光澤度為110-35。

借由上述技術方案，本實用新型光學調控電磁屏蔽玻璃至少具有下列優點：

本實用新型中電磁屏蔽材料直接附著在結構支撐玻璃上，使用的電磁屏蔽材料為一層具有無規則二維網格形態的高電導率復合金屬膜，該形態的電磁屏蔽材料通過隨機無序網格狀結構對光學干涉效應的調控來消除莫爾條紋現象；本實用新型的光學調控電磁屏蔽玻璃無莫爾干涉條紋現象，結構簡單，耐候性強，且同時具有高光學透過率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，電磁屏蔽效能大于等于20dB。本實用新型的制備方法包括過涂膠、激光直寫刻蝕、真空鍍膜、去膠，制備方法簡單，成品率高。