[實(shí)用新型]一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720763445.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN206970710U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱選敏;郭愛(ài)云;李爍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢科瑞達(dá)真空科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京世譽(yù)鑫誠(chéng)專利代理事務(wù)所(普通合伙)11368 | 代理人: | 郭官厚 |
| 地址: | 430075 湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)高新*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示屏 模組 連續(xù) 磁控濺射 鍍膜 真空 系統(tǒng) | ||
1.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),包括進(jìn)片移動(dòng)架1、上片架2、回片架14、下片架12、出片移動(dòng)架13及管道20,其特征在于:還包括由安裝在底架上的進(jìn)片真空腔3、進(jìn)片粗真空緩沖腔4、進(jìn)片高真空緩沖腔5、進(jìn)片過(guò)渡真空腔6、鍍膜工藝真空腔7、出片過(guò)渡真空腔8、出片高真空緩沖腔9、出片粗真空緩沖腔10、出片真空腔11依次膠圈密封連接組成,所述每個(gè)腔體正面安裝有通過(guò)膠圈密封的維修門(mén)33,所述進(jìn)片真空腔3和進(jìn)片粗真空緩沖腔4右側(cè)分別安裝有一個(gè)進(jìn)片抽氣系統(tǒng)31和一個(gè)進(jìn)片粗真空抽氣系統(tǒng)41;所述出片粗真空緩沖腔10和出片真空腔11右側(cè)還分別安裝有一個(gè)出片粗真空抽氣系統(tǒng)15和出片抽氣系統(tǒng)16。
2.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述進(jìn)片真空腔3與空氣接觸的法蘭處還安裝有真空閥門(mén)32,所述進(jìn)片真空腔3通過(guò)管道20與進(jìn)片抽氣系統(tǒng)31連接,且由至少一組機(jī)械泵17組成,并至少通過(guò)兩個(gè)連接口34與進(jìn)片真空腔3連接。
3.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述進(jìn)片粗真空緩沖腔4與進(jìn)片真空腔3通過(guò)真空閥門(mén)32連接,所述進(jìn)片粗真空緩沖腔4通過(guò)管道20與進(jìn)片粗真空抽氣系統(tǒng)41連接,且由至少一組機(jī)械泵17和機(jī)械泵18組成,并至少通過(guò)兩個(gè)連接口34與進(jìn)片粗真空緩沖腔4連接。
4.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述進(jìn)片高真空緩沖腔5與進(jìn)片粗真空緩沖腔4通過(guò)真空閥門(mén)32連接,所述在進(jìn)片高真空緩沖腔5的背板上至少安裝有兩個(gè)分子泵19,并通過(guò)管道20連接高分子泵抽氣系統(tǒng)51,所述分子泵抽氣系統(tǒng)51由至少一組包含機(jī)械泵17和機(jī)械泵18組成。
5.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述進(jìn)片過(guò)渡真空腔6與進(jìn)片高真空緩沖腔5通過(guò)真空閥門(mén)32連接,在進(jìn)片過(guò)渡真空腔6的背板上至少安裝有一個(gè)分子泵19,并通過(guò)管道20連接分子泵抽氣系統(tǒng)51。
6.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述鍍膜工藝真空腔7與進(jìn)片過(guò)渡真空腔6通過(guò)真空法蘭連接,并包括至少三個(gè)獨(dú)立的工藝真空腔,每個(gè)獨(dú)立的工藝真空腔的正面安裝有兩個(gè)通過(guò)膠圈密封的工藝門(mén);所述每個(gè)鍍膜工藝真空腔7通過(guò)管道20連接的分子泵抽氣系統(tǒng)51由至少一臺(tái)分子泵19組成。
7.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述出片過(guò)渡真空腔8與鍍膜工藝真空腔7通過(guò)法蘭連接,并與出片高真空緩沖腔9通過(guò)真空閥門(mén)32連接,在出片過(guò)渡真空腔8的背板上至少安裝有一個(gè)分子泵19,并通過(guò)管道20連接分子泵抽氣系統(tǒng)51。
8.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述出片高真空緩沖腔9與出片粗真空緩沖腔10通過(guò)真空閥門(mén)32連接,在出片高真空緩沖腔9的背板上至少安裝有兩個(gè)分子泵19,并通過(guò)管道20連接分子泵抽氣系統(tǒng)51。
9.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述出片粗真空緩沖腔10與出片真空腔11通過(guò)真空閥門(mén)32連接,與出片粗真空緩沖腔10通過(guò)管道20連接的出片粗真空抽氣系統(tǒng)15,由至少一組機(jī)械泵17和機(jī)械泵18組成,并至少通過(guò)兩個(gè)連接口34與出片粗真空緩沖腔10連接。
10.一種對(duì)顯示屏模組連續(xù)磁控濺射鍍膜的真空系統(tǒng),其特征在于:所述出片真空腔11與空氣接觸的法蘭處安裝有真空閥門(mén)32,與出片真空腔11通過(guò)管道20連接的出片抽氣系統(tǒng)16,由至少一組機(jī)械泵17組成,并至少通過(guò)兩個(gè)連接口34與進(jìn)片真空腔3連接。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
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C23C14-58 .后處理





