[實用新型]電連接件及等離子體產生裝置有效
| 申請號: | 201720763041.5 | 申請日: | 2017-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN207338661U | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發明(設計)人: | 鄭友山 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01R4/48 | 分類號: | H01R4/48;H01J37/30 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張天舒 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 連接 等離子體 產生 裝置 | ||
本實用新型提供一種電連接件,用于使第一連接柱和第二連接柱電連接,包括本體,所述本體上設置有第一孔,且在所述第一孔的側壁上設置有用于放置第一彈性件的第一凹部,所述第一連接柱可插入所述第一孔內和自所述第一孔內拔出,在所述第一連接柱插入所述第一孔內時所述第一彈性件被壓縮在所述第一連接柱和所述第一凹部之間,從而固定所述第一連接柱;所述第二連接柱與所述本體電連接;所述第一彈性件與所述第一連接柱和所述本體電連接。還提供一種等離子體產生裝置。在反應腔室維護時可以快速地打開腔體,從而可以提高反應腔室的安裝和維護效率。
技術領域
本實用新型屬于微電子加工技術領域,具體涉及一種電連接件及等離子體產生裝置。
背景技術
刻蝕反應腔室通常包括電感耦合等離子體腔室和電容耦合等離子體腔室。圖1為現有的電感耦合等離子體腔室的結構示意圖,請參閱圖1,該腔室包括腔體1和等離子體產生裝置2,等離子體產生裝置2 包括感應線圈21和匹配器22,其中,感應線圈21設置在反應腔室的頂壁的石英蓋11上,感應線圈21和匹配器22通過連接條23相連;匹配器22用于與射頻電源相連,從而將射頻電源輸出的射頻信號經過匹配器22、連接條23和感應線圈21耦合至腔體1內,將反應腔室內的工藝氣體激發形成等離子體;在石英蓋11上還設置有屏蔽罩12,用于屏蔽射頻電場,使射頻電場不會泄露到外部空間對周邊人員產生傷害;匹配器22固定在屏蔽罩12上,并且,屏蔽罩12和匹配器22可沿轉軸13翻轉,例如,反轉90°,這樣,將感應線圈21和石英蓋11 移走,即可打開腔體進行腔室維護。
由于在實際應用中需要連接條23使用螺釘與匹配器22和感應線圈21的連接柱固定相連,因此,在打開腔體時需要至少拆掉連接條23 與感應線圈21的連接柱固定相連的螺釘,而螺釘的拆卸和安裝相對較麻煩。
實用新型內容
本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一,提出了一種電連接件及等離子體產生裝置,在反應腔室維護時可以快速地打開腔體,從而可以提高反應腔室的安裝和維護效率。
為解決上述問題之一,本實用新型提供了一種電連接件,用于使第一連接柱和第二連接柱電連接;包括本體,所述本體上設置有第一孔,且在所述第一孔的側壁上設置有用于放置第一彈性件的第一凹部,所述第一連接柱可插入所述第一孔內和自所述第一孔內拔出,在所述第一連接柱插入所述第一孔內時所述第一彈性件被壓縮在所述第一連接柱和所述第一凹部之間,從而固定所述第一連接柱;所述第二連接柱與所述本體電連接;所述第一彈性件與所述第一連接柱和所述本體電連接。
優選地,在所述本體上還設置有第二孔,且在所述第二孔的側壁上設置有用于放置第二彈性件的第二凹部,所述第二連接柱可插入所述第二孔內和自所述第二孔內拔出,在所述第二連接柱插入所述第二孔內時所述第二彈性件被壓縮在所述第二連接柱和所述第二凹部之間,從而固定所述第二連接柱;所述第二彈性件與所述第二連接柱和所述本體電連接。
優選地,所述第一孔為通孔,所述第一凹部設置在所述通孔的側壁上;在所述通孔的側壁上還設置有用于放置第二彈性件的第二凹部;所述第一凹部和所述第二凹部沿所述通孔的軸向間隔設置;所述第一連接柱和所述第二連接柱分別可自所述通孔的兩端插入所述通孔內和自所述通孔的兩端拔出;所述第二彈性件與所述第二連接柱和所述本體電連接;在所述第二連接柱插入所述通孔內時所述第二彈性件被壓縮在所述第二連接柱和所述第二凹部之間,從而固定所述第二連接柱。
優選地,所述本體采用導電材料制成。
優選地,所述第一彈性件采用導電材料制成。
優選地,所述第二彈性件采用導電材料制成。
優選地,所述第一凹部數量為至少兩個,至少兩個所述第一凹部沿所述第一孔的周向間隔且均勻設置;所述第一彈性件與所述第一凹部一一對應設置。
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