[實用新型]一種雕刻機有效
| 申請號: | 201720761011.0 | 申請日: | 2017-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN207028652U | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 李鑫 | 申請(專利權)人: | 東莞市新法拉數控設備有限公司 |
| 主分類號: | B44B1/00 | 分類號: | B44B1/00;B44B1/06;B44B3/00;B44B3/06 |
| 代理公司: | 東莞恒成知識產權代理事務所(普通合伙)44412 | 代理人: | 劉仰葉 |
| 地址: | 523000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雕刻 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種雕刻機。
背景技術
雕刻從原理上來說是一種鉆銑組合加工,雕刻作業可分為單面雕刻或是雙面雕刻,現有技術中的雕刻機的工作臺為固定結構,只能完成單面雕刻,無法進行多面雕刻。
發明內容
為解決上述問題,本實用新型提供一種雕刻機,其使工作臺自動轉動至另一平面從而實現多面雕刻。
為解決上述目的,本實用新型提供以下技術方案。
一種雕刻機,包括機架和用于放置待加工物料的工作臺,工作臺設于機架,工作臺與機架活動連接,機架包括旋轉驅動機構,旋轉驅動機構的輸出端與工作臺連接以驅動工作臺轉動從而讓工作臺傾斜。
通過采用上述技術方案,雕刻機在工作狀態下,完成單面的雕刻后,通過旋轉驅動機構驅動工作臺轉動并相對機架傾斜,從而使工作臺轉動至相鄰的工作平面,繼續完成物料的另一平面的的雕刻,無需人工將物料轉動,實現多面雕刻,提高生產效率,滿足自動化的生產需求。
優選的,旋轉驅動機構包括升降氣缸,升降氣缸分別與工作臺和機架連接以驅動工作臺轉動。
優選的,工作臺通過軸承組件與機架活動連接。軸承組件的設置,其一與機架連接,使機架支撐工作臺,其二使工作臺可相對機架活動,從而實現工作臺轉動至另一工作面。
優選的,所述軸承組件設于工作臺兩側。
優選的,旋轉驅動機構設有角度限位裝置,以限定工作臺可具有多個傾斜角度。角度限位裝置使得旋轉臺的傾斜角度可調,以更好地使用。
優選的,工作臺包括旋轉架和治具,所述治具設于旋轉架,用于固定待加工的物料。治具的設置,實現固定待加工物料,使在雕刻工作狀態下,不會導致因物料位置不穩定,而造成雕刻圖案的偏差,從而提高雕刻效果。
優選的,所述治具設有真空吸附裝置,以穩固待加工的物料。采用真空吸附裝置穩固物料,操作簡便,縮短上料所需的工時,從而提高生產效率。
優選的,真空吸附裝置包括真空吸孔和密封條。密封條的設置,進一步優化物料固定于治具上的效果。
附圖說明
圖1為本實用新型的雕刻機的立體結構示意圖。
附圖標記說明:1.機架、2.工作臺、21.軸承組件、22.旋轉架、23.治具、24.真空吸附裝置、241.真空吸孔、242.密封條、3.旋轉驅動機構、31.升降氣缸、32.角度限位裝置。
具體實施方式
以下結合具體實施例對本發明創造作詳細說明。
參照圖1,一種雕刻機,包括機架1和用于放置待加工物料的工作臺2,工作臺2設于機架1,工作臺2與機架1活動連接,機架1包括旋轉驅動機構3,旋轉驅動機構3的輸出端與工作臺2連接以驅動工作臺2轉動從而讓工作臺2傾斜。
本實施例中,雕刻機在工作狀態下,完成單面的雕刻后,通過旋轉驅動機構3驅動工作臺2轉動并相對機架1傾斜,從而使工作臺2轉動至相鄰的工作平面,繼續完成物料的另一平面的的雕刻,無需人工將物料轉動,實現多面雕刻,提高生產效率,滿足自動化的生產需求。
圖1示出,旋轉驅動機構3包括升降氣缸31,升降氣缸31分別與工作臺2和機架1連接以驅動工作臺2轉動。工作臺2通過軸承組件21與機架1活動連接。軸承組件21的設置,其一與機架1連接,使機架1支撐工作臺2,其二使工作臺2可相對機架1活動,從而實現工作臺2轉動至另一工作面。所述軸承組件21設于工作臺2兩側。本實施例中,旋轉驅動機構3設有角度限位裝置32,以限定工作臺2可具有多個傾斜角度。角度限位裝置32使得旋轉臺的傾斜角度可調,以更好地使用。
圖1示出,工作臺2包括旋轉架22和治具23,所述治具23設于旋轉架22,用于固定待加工的物料。治具23的設置,實現固定待加工物料,使在雕刻工作狀態下,不會導致因物料位置不穩定,而造成雕刻圖案的偏差,從而提高雕刻效果。所述治具23設有真空吸附裝置24,以穩固待加工的物料。采用真空吸附裝置24穩固物料,操作簡便,縮短上料所需的工時,從而提高生產效率。真空吸附裝置24包括真空吸孔241和密封條242。密封條242的設置,進一步優化物料固定于治具23上的效果。
最后應當說明的是,以上實施例僅用以說明本發明創造的技術方案,而非對本發明創造保護范圍的限制,盡管參照較佳實施例對本發明創造作了詳細地說明,本領域的普通技術人員應當理解,可以對本發明創造的技術方案進行修改或者等同替換,而不脫離本發明創造技術方案的實質和范圍。
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