[實用新型]一種半導體制程檢測裝置有效
| 申請號： | 201720726312.X | 申請日： | 2017-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN206930599U | 公開（公告）日： | 2018-01-26 |
| 發明（設計）人： | 李麗;方建勛;陳圣白;陳明志;陳朕;靳春陽 | 申請（專利權）人： | 中芯長電半導體（江陰）有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/04 | 分類號： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙)31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 214437 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 半導體 檢測 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種半導體制程檢測裝置，其特征在于，所述半導體制程檢測裝置至少包括：
X射線發生器，設置于所述X射線發生器的光線出射端口的濾波器；
所述濾波器包括支架及過濾板，所述支架將所述過濾板固定于所述X射線發生器的光線出射端口，所述過濾板的材質為鋅或鋅的混合物。
2.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述過濾板的直徑設定為4.5mm～5.5mm。
3.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述過濾板的厚度設定為0.1mm～0.2mm。
4.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述過濾板濾除的X射線為對半導體檢測成像沒有貢獻的低能量X射線。
5.根據權利要求1或4所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述過濾板濾除的X射線的波長大于0.083nm。
6.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述過濾板與所述X射線發生器的光線出射端口平行設置。
7.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述支架包括第一擋板及第二擋板，分別與所述X射線發生器的光線出射端口垂直設置。
8.根據權利要求1所述的半導體制程檢測裝置，其特征在于：所述支架的材質為不銹鋼。
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