[實用新型]一種用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備

有效

• 申請號: 201720717257.8
• 申請日: 2017-06-20
• 公開（公告）號: CN206795537U
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 李豐
• 申請（專利權）人: 成都久久陶瓷有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B55/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，其包括拋光組件，所述拋光組件包括旋轉部和拋光部，所述拋光部設置在所述旋轉部內；所述拋光部包括拋光磨砂頭和第一拋光外殼，所述拋光磨砂頭設置在所述第一拋光外殼內；所述旋轉部包括第二驅動電機、第二拋光外殼和拋光支撐架，所述第二驅動電機設置在第二拋光外殼內，所述第二拋光外殼設置在所述第一拋光外殼外，所述拋光支撐架設置在第二拋光外殼外。

2.根據權利要求1所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述半封閉式拋光設備還包括拋光裝置和吸塵裝置，所述拋光裝置設置在吸塵裝置內。

3.根據權利要求2所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述拋光裝置包括電機組件、固定組件、支撐組件和拋光組件，所述電機組件設置在所述固定組件和所述拋光組件內，所述固定組件與流水線平臺連接，所述支撐組件設置在所述固定組件一側并與所述固定組件連接，所述拋光組件與所述支撐組件配合連接。

4.根據權利要求3所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述固定組件包括固定基座和液壓卡組，所述固定基座水平固定在流水平臺上，所述固定基座平臺表面還設置有液壓卡組，所述液壓卡組相向設置。

5.根據權利要求3所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述電機組件包括第一驅動電機和第二驅動電機，所述第一驅動電機設置在所述固定基座平臺一側，所述第二驅動電機設置在所述拋光部內。

6.根據權利要求3所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述支撐組件包括第一支撐架、第二支撐架、第一關節轉軸、第二關節轉軸和拋光搖臂，所述第一支撐架豎直設置在所述固定基座一側；所述第二支撐架與所述固定基座水平設置，并且所述第二支撐架與所述第一支撐架連接；所述第一關節轉軸與所述第二支撐架配合，并且所述第一關節轉軸和所述拋光搖臂相配合；所述拋光搖臂的一端與所述第一關節轉軸配合，所述拋光搖臂的另一端與所述第二關節轉軸配合。

7.根據權利要求1所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述旋轉部中的第二拋光外殼設置成桶狀，所述第二拋光外殼和所述第一拋光外殼之間存在空隙，所述第一拋光外殼和所述第二拋光外殼底部形成空腔，所述第二驅動電機設置在桶狀第二拋光外殼內的空腔中；所述拋光支撐架為U型的不銹鋼支撐架，所述拋光支撐架通過兩個緊固件與所述第二拋光外殼連接，所述拋光支撐架還與第二關節轉軸配合。

8.根據權利要求2所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述吸塵裝置還包括防護組件和吸塵組件，所述吸塵組件設置在所述吸塵組件內。

9.根據權利要求8所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述防護組件包括第一防護殼體和第二防護殼體，所述第一防護殼體為兩端有開口的長方體外殼，所述第一防護殼體的外殼上設置有多個小孔；所述第二防護殼體與所述第一防護殼體的形狀匹配，所述第二防護殼體設置在所述第一防護殼體外，所述第一防護殼體與第二防護殼體之間形成防護空腔。

10.根據權利要求9所述的用于陶瓷加工的半封閉式拋光設備，其特征在于，所述吸塵組件包括吸塵抽風機、吸塵噴霧機和吸塵水槽，所述吸塵抽風機、所述吸塵噴霧機和所述吸塵水槽分別設置在所述防護空腔中，所述吸塵抽風機設置于所述防護空腔中的兩側，所述吸塵抽風機設置于相對流水線平行的兩側；所述吸塵噴霧機設置在所述防護空腔的頂部；所述吸塵水槽設置在所述防護空腔的底部。