[實用新型]清洗裝置

有效

• 申請號: 201720708791.2
• 申請日: 2017-06-16
• 公開（公告）號: CN206931568U
• 公開（公告）日: 2018-01-26
• 發明（設計）人: 劉留;廖彬;周鐵軍;沈艷東
• 申請（專利權）人: 廣東先導先進材料股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種清洗裝置，用于清洗晶片，其特征在于：所述清洗裝置包括一清洗缸、可升降并可旋轉的一立柱、安裝在立柱上的一底座、一氣缸、一端固定在氣缸上的一伸縮管、一控制器、一電機，所述氣缸能夠帶動伸縮管前后移動，所述氣缸的行程受控制器控制，所述清洗缸包圍底座并與底座共同形成一清洗腔，所述伸縮管為一中空管，所述伸縮管的另一端伸入清洗腔內，所述晶片固定放置在底座上，所述電機與立柱連接并為立柱升降和旋轉提供動力，所述電機受控制器控制。

2.根據權利要求1 所述的清洗裝置，其特征在于：所述清洗裝置包括控制噴淋藥液的一噴淋部件，所述噴淋部件包括一控制閥、若干藥液罐、若干藥液管，所述藥液管的一端經控制閥伸入藥液罐內，所述藥液管貫穿伸縮管且藥液管另一端固定在伸縮管前端。

3.根據權利要求1 所述的清洗裝置，其特征在于：所述清洗裝置還包括一支撐板，所述清洗缸、氣缸、伸縮管均固定在支撐板上。

4.根據權利要求1 所述的清洗裝置，其特征在于：所述底座位于清洗缸中間，所述清洗缸的頂面高于晶片所處的位置。

5.根據權利要求1 所述的清洗裝置，其特征在于：所述清洗缸底部設置有排液孔。

6.根據權利要求1 所述的清洗裝置，其特征在于：所述清洗缸側壁設置有排風管。