[實用新型]保護氣體處理系統

有效

• 申請號: 201720697402.0
• 申請日: 2017-06-15
• 公開（公告）號: CN207038186U
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發明（設計）人: R·A·科爾賓;O·D·尼爾森
• 申請（專利權）人: 泰拉能源有限責任公司
• 主分類號: G21C9/00
• 分類號: G21C9/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所11247
• 代理人: 吳鵬,張魯濱

1.一種用于將氬與氙和氪分離的保護氣體處理系統，其特征在于，所述系統包括：

豎直地取向的低溫蒸餾塔，所述低溫蒸餾塔具有一高度并且限定了填充塔和配置在所述填充塔周圍的真空殼套，所述填充塔構造成以至少150psi的壓力運行，所述低溫蒸餾塔包括：

在填充塔的至少一部分內的填充材料；

進氣入口，所述進氣入口位于所述高度的中點下方的一個點并與所述填充塔連通；和

多條樣品管路，所述多條樣品管路位于所述進氣入口上方并與所述填充塔連通；和

收集罐，所述收集罐與所述填充塔的下部開口連通。

2.根據權利要求1所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述進氣入口定位成不高于所述低溫蒸餾塔的高度的三分之一。

3.根據權利要求1所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述多條樣品管路中的每一條都相對于相鄰的樣品管路等距地隔開。

4.根據權利要求3所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述多條樣品管路包括三條樣品管路。

5.根據權利要求3所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述多條樣品管路中的每一條都與相鄰的樣品管路相距至少4英寸。

6.根據權利要求3所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述多條樣品管路中的每一條都與相鄰的樣品管路相距6英寸。

7.根據權利要求1所述的保護氣體處理系統，其特征在于，所述低溫蒸餾塔還包括：

所述填充塔上方的氬出口；和

在所述填充塔上方和所述氬出口下方的再液化流體入口。

8.根據權利要求7所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

分離單元，所述分離單元與所述再液化流體入口流體連通；和

在所述再液化流體入口和所述分離單元之間的再液化流體入口管，所述再液化流體入口管包括集槽部分。

9.根據權利要求1所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

配置在所述低溫蒸餾塔上游的活性碳床層單元。

10.根據權利要求9所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

在所述活性碳床層單元的上游的緩沖和延遲罐單元。

11.根據權利要求10所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

在所述緩沖和延遲罐單元上游的真空罐單元；以及

在所述真空罐單元下游并在所述緩沖和延遲罐單元上游的壓縮機。

12.根據權利要求11所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

在所述真空罐單元上游的鈉/銫蒸氣集槽單元，所述鈉/銫蒸氣集槽單元與反應堆的頂部空間流體連通。

13.根據權利要求1所述的保護氣體處理系統，其特征在于，還包括：

配置在低溫蒸餾塔的下游的氬回收罐。