[實(shí)用新型]液處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720684031.2 | 申請日: | 2017-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN207303048U | 公開(公告)日: | 2018-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安倍昌洋;稻田博一;東徹;中島常長;木下尚文;梶原英樹 | 申請(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種向基板供給處理液來進(jìn)行液處理的液處理裝置、液處理方法以及包括液處理裝置所使用的計(jì)算機(jī)程序的存儲(chǔ)介質(zhì)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體制造步驟的光刻法步驟中,通過液處理裝置向作為基板的半導(dǎo)體晶圓(以下稱作晶圓)的表面供給抗蝕劑等處理液來進(jìn)行處理。作為該液處理裝置,有時(shí)為了提高生產(chǎn)率而構(gòu)成為設(shè)置多個(gè)在該液處理裝置中具備基板保持部的杯部(cup),能夠在各杯部并行地對晶圓進(jìn)行處理。并且,有時(shí)為了削減裝置的制造成本,將裝置構(gòu)成為在這些多個(gè)杯部之間共用噴嘴,噴嘴通過臂在該多個(gè)杯部之間移動(dòng)。
另外,在如上述的那樣在多個(gè)杯部中共用噴嘴的液處理裝置中,有時(shí)為了應(yīng)對處理的多樣化而構(gòu)成為具備供給互不相同的種類的處理液的多個(gè)噴嘴。在該情況下,例如各噴嘴載置于杯部的外側(cè)的載置部,上述的臂選擇這些噴嘴中的一個(gè)來保持,并將該噴嘴輸送到各杯部的晶圓上來進(jìn)行處理。在專利文獻(xiàn)1中示出了這樣構(gòu)成的液處理裝置。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2014-241382號公報(bào)
實(shí)用新型內(nèi)容
實(shí)用新型要解決的問題
另外,在上述的各噴嘴上連接有用于向該噴嘴供給處理液的配管。在如已述的那樣通過臂在各杯部上與載置部之間輸送噴嘴的情況下,噴嘴的輸送路徑比較復(fù)雜。另外,為了確保高的生產(chǎn)率,臂的移動(dòng)以比較高的速度進(jìn)行。因此,存在如下?lián)鷳n:在與輸送中的噴嘴連接的配管中,由于急劇地產(chǎn)生大的彎曲、扭曲而受到損傷。在專利文獻(xiàn)1中沒有記載關(guān)于這樣的問題的充分的解決方法。
本實(shí)用新型是基于這樣的情況而完成的,其目的在于關(guān)于在噴嘴載置區(qū)域與多個(gè)基板載置區(qū)域上的各處理位置之間進(jìn)行噴嘴的輸送的液處理裝置,能夠抑制對與噴嘴連接的配管的損傷并且抑制生產(chǎn)率的下降。
用于解決問題的方案
本實(shí)用新型的液處理裝置的特征在于,具備:多個(gè)基板載置區(qū)域,所述多個(gè)基板載置區(qū)域在左右方向上排列;噴嘴,其用于從各所述基板載置區(qū)域上的各處理位置分別向基板供給處理液來對該基板進(jìn)行處理;噴嘴載置區(qū)域,其設(shè)置在所述基板載置區(qū)域的列的后方,用于載置所述噴嘴;臂,其將所述噴嘴以裝卸自如的方式保持在該臂的一端側(cè);驅(qū)動(dòng)部,其用于使所述臂繞位于所述基板載置區(qū)域的后方側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng),并且使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸在左右方向上移動(dòng);以及控制部,其輸出控制信號,使得執(zhí)行以下步驟:從所述噴嘴載置區(qū)域?qū)⑺鰢娮鞆呐c各處理位置對應(yīng)地設(shè)定的待機(jī)位置中的與輸送目的地的處理位置對應(yīng)的待機(jī)位置的后方輸送到該待機(jī)位置;接著使該噴嘴在該待機(jī)位置進(jìn)行待機(jī);以及之后將該噴嘴輸送到所述處理位置,其中,所述待機(jī)位置位于基板載置區(qū)域的外側(cè)且在前后方向上觀察時(shí)位于處理位置與噴嘴載置區(qū)域之間。
優(yōu)選的是,用于向所述噴嘴供給所述處理液的配管連接于該噴嘴,該配管以從位于所述噴嘴載置區(qū)域的所述噴嘴起沿左右方向延伸的方式進(jìn)行設(shè)置,使得與各所述噴嘴位于各處理位置上時(shí)相比,在各所述噴嘴位于所述噴嘴載置區(qū)域時(shí)配管的變形得到抑制。
優(yōu)選的是,所述噴嘴設(shè)置有多個(gè),通過所述臂選擇性地保持所述噴嘴。
優(yōu)選的是,所述控制部輸出控制信號,使得在將被所述臂保持的所述噴嘴輸送到所述待機(jī)位置之前,使所述噴嘴在設(shè)定在比該待機(jī)位置靠后方側(cè)的位置的后方側(cè)待機(jī)位置進(jìn)行待機(jī)。
優(yōu)選的是,在向一個(gè)所述處理位置輸送所述噴嘴時(shí),噴嘴位于與該處理位置對應(yīng)的所述后方側(cè)待機(jī)位置的時(shí)間比噴嘴位于與該處理位置對應(yīng)的所述待機(jī)位置的時(shí)間長。
優(yōu)選的是,在向所述各處理位置輸送所述噴嘴時(shí),所述臂向相同方向轉(zhuǎn)動(dòng)來進(jìn)行該噴嘴的輸送。
本實(shí)用新型的液處理方法用于液處理裝置,所述液處理裝置具備:多個(gè)基板載置區(qū)域,所述多個(gè)基板載置區(qū)域在左右方向上排列;噴嘴,其用于從各所述基板載置區(qū)域上的各處理位置分別向基板供給處理液來對該基板進(jìn)行處理;噴嘴載置區(qū)域,其設(shè)置在所述基板載置區(qū)域的列的后方,用于載置所述噴嘴;臂,其將所述噴嘴以裝卸自如的方式保持在該臂的一端側(cè);以及驅(qū)動(dòng)部,其用于使所述臂繞位于所述基板載置區(qū)域的后方側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng),并且使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸在左右方向上移動(dòng),所述液處理方法的特征在于,具備以下步驟:從所述噴嘴載置區(qū)域?qū)⑺鰢娮鞆呐c各處理位置對應(yīng)地設(shè)定的待機(jī)位置中的與輸送目的地的處理位置對應(yīng)的待機(jī)位置的后方輸送到該待機(jī)位置的步驟;接著使該噴嘴在該待機(jī)位置進(jìn)行待機(jī)的步驟;以及之后將該噴嘴輸送到所述處理位置的步驟,其中,所述待機(jī)位置位于基板載置區(qū)域的外側(cè)且在前后方向上觀察時(shí)位于處理位置與噴嘴載置區(qū)域之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





