[實用新型]光源模組及取像裝置有效
| 申請號: | 201720676853.6 | 申請日: | 2017-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN207200825U | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發明(設計)人: | 林時選;林明杰 | 申請(專利權)人: | 菱光科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H04N1/028 | 分類號: | H04N1/028;H04N1/031;F21S8/00;F21V19/00;F21V8/00;F21V5/00;F21V7/04;F21V17/10;F21V15/00;F21Y115/10 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司11228 | 代理人: | 張瑾 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市內*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光源 模組 裝置 | ||
1.一種光源模組,其特征在于,所述光源模組包含:
一基板;
一光導桿,具有一入光面及一出光面,所述出光面鄰接于所述入光面;以及
多個發光二極管,設于所述基板上,所述多個發光二極管沿著一第一軸線排列并朝向所述入光面投射光線,且各所述發光二極管的一光軸與所述第一軸線之間的距離不大于0.5毫米,
其中所述第一軸線平行于所述出光面的法線。
2.如權利要求1所述的光源模組,其特征在于,于所述多個發光二極管中,排列最鄰近所述出光面的所述發光二極管供產生波長介于606~626納米的光線,排列次鄰近于所述出光面的所述發光二極管供產生波長介于508~555納米的光線,排列最遠離所述出光面的所述發光二極管供產生波長介于450~480納米的光線。
3.如權利要求1所述的光源模組,其特征在于,所述光導桿包含多個微棱鏡,所述多個微棱鏡形成于所述光導桿的一底面上,所述底面相對于所述出光面,所述多個微棱鏡的布設密度與其布設位置所接收到的光線強度呈反比。
4.如權利要求1所述的光源模組,其特征在于,還包含一反射件,安裝于所述基板上,所述反射件的一側壁環繞所述多個發光二極管,所述側壁的內徑隨著遠離所述基板而增加。
5.如權利要求4所述的光源模組,其特征在于,所述反射件還包含一底壁,連接于所述側壁鄰近于所述基板的一側,所述多個發光二極管設于所述底壁上。
6.如權利要求4所述的光源模組,其特征在于,還包含一接合件,所述多個發光二極管及所述反射件設于所述接合件的一側,所述光導桿安裝于所述接合件的另一側以接收所述多個發光二極管配合產生的光線。
7.如權利要求1所述的光源模組,其特征在于,還包含一保護件,部份包覆所述光導桿,所述入光面及所述出光面露出所述保護件之外。
8.一種取像裝置,用以擷取一物件的影像,其特征在于,所述取像裝置包含:
如權利要求1至7中任一項所述的光源模組;
一基座,包含一容置槽及一穿槽,所述光源模組設于所述容置槽中,所述物件位于所述基座的一側;
一感測模組,位于所述基座的另一側,所述感測模組包含沿著一第二軸線排列的多個感光件;
一成像模組,安裝于所述穿槽中,并用以將所述物件的影像成像于所述多個感光件。
9.如權利要求8所述的取像裝置,其特征在于,所述第一軸線與所述多個感光件的光軸的夾角介于35~65度之間。
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