[實用新型]一種改進型高分子施加裝置

有效

• 申請號: 201720667141.8
• 申請日: 2017-06-09
• 公開（公告）號: CN207061252U
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發明（設計）人: 林秉正
• 申請（專利權）人: 泉州市漢威機械制造有限公司
• 主分類號: B65G47/74
• 分類號: B65G47/74
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司35218
• 代理人: 方惠春

1.一種改進型高分子施加裝置，包括機架、高分子下料器、高分子下料板、凹輥和凸輥，其特征在于：所述高分子下料器設于機架上部，所述高分子下料板設于高分子下料器的出料口上，所述高分子下料板上均布設有下料孔，所述凹輥的外表面設有多圈間隔平行排列的向凹輥軸心凹陷的環形凹腔，所述凸輥的外表面設有多圈間隔平行排列的由凸輥軸心向外延伸凸出外表面的環形凸圈，所述凹輥可上下調節地設于機架上位于高分子下料板下方且高分子下料板的出料孔與凹輥的環形凹腔相對應，所述凹輥內設有負壓吸附機構且該負壓吸附機構位于各圈環形凹腔處進行負壓吸附，所述凸輥可上下調節地設于機架上位于凹輥下方且凸輥的環形凸圈與凹輥的環形凹腔相適配且一一對應。

2.根據權利要求1所述的改進型高分子施加裝置，其特征在于：所述高分子下料板為波浪狀高分子下料板且該高分子下料板的波浪狀與凹輥的多圈環形凹腔相貼合，所述高分子下料板的出料孔分別布設于波浪狀凹坑底部用于高分子下料。

3.根據權利要求1或2所述的改進型高分子施加裝置，其特征在于：還包括插板，所述插板可水平方向移動地設于高分子下料器的出料口與高分子下料板之間用于調節高分子下料板的出料孔的出料量。