[實用新型]一種沖壓校平模具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720663776.0 | 申請日: | 2017-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN206824522U | 公開(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙亮;楊曉 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市正和首信精密科技有限公司 |
| 主分類號: | B21D37/10 | 分類號: | B21D37/10;B21D1/00 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 沖壓 模具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及校平結(jié)構(gòu),特別涉及一種沖壓校平模具。
背景技術(shù)
工業(yè)生產(chǎn)中,常需要對板件進(jìn)行校平,比如:使用沖床對板件進(jìn)行冷沖校平。常見的校平件或者校平塊,其校平面一般為平面,如果采用這樣的校平件或者校平塊對較薄(比如:厚度為0.15mm)且對平面度要求較高(比如:平面度為0.05mm以下)的板件進(jìn)行校平,校平后板件容易殘留內(nèi)應(yīng)力,一段時間后板件容易發(fā)生翹曲。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的主要目的是提出一種沖壓校平模具,旨在通過分散用力,避免板件中內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生。
為了實現(xiàn)以上技術(shù)目的,本實用新型提出一種沖壓校平模具,包括:
上校平模組,包括上校平模,所述上校平模具有上校平面,所述上校平面上設(shè)有多個上凹槽;以及,
下校平模組,包括下校平模,所述下校平模具有與所述上校平面相對設(shè)置的下校平面,所述下校平面上設(shè)有多個與所述上凹槽正對設(shè)置的下凹槽,以對置于所述上校平面和所述下校平面之間的板件進(jìn)行沖壓校平。
優(yōu)選地,所述上校平面和/或所述下校平面上設(shè)有讓位槽。
優(yōu)選地,設(shè)置于所述上校平面的讓位槽貫穿所述上校平模設(shè)置;和/或,
設(shè)置于所述下校平面的讓位槽貫穿所述下校平模設(shè)置。
優(yōu)選地,所述上凹槽與所述上校平面的交接處設(shè)有倒角;和/或,
所述下凹槽與所述下校平面的交接處設(shè)有倒角。
優(yōu)選地,所述上校平模組還包括驅(qū)動所述上校平模上下移動的上校平模驅(qū)動機(jī)構(gòu),所述上校平模的側(cè)面設(shè)有連接槽,所述上校平模驅(qū)動機(jī)構(gòu)通過所述連接槽,卡接于所述上校平模。
優(yōu)選地,所述上凹槽和所述下凹槽的開口為圓形。
優(yōu)選地,所述上凹槽和所述下凹槽的開口為方形。
優(yōu)選地,所述上凹槽和所述下凹槽的開口為正方形,所述正方形的邊長為0.55mm。
優(yōu)選地,相鄰的兩個上凹槽之間的間距和/或相鄰的兩個下凹槽之間的間距為0.25mm。
優(yōu)選地,所述上凹槽和/或所述下凹槽的深度為0.25mm。
本實用新型提供的技術(shù)方案的沖壓校平模具,通過正對設(shè)置上凹槽和下凹槽,使在沖壓的過程中,分散用力,被沖壓的板材突起部位的材料得以向上凹槽和下凹槽處延展,能有效地避免內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生,防止發(fā)生翹曲,并保證板件的平面度。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型提供的沖壓校平模具的一實施例的上校平模的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1所示的沖壓校平模具的上校平模的仰視圖;
圖3為圖1中區(qū)域A的局部放大圖;
圖4為圖1所示的沖壓校平模具的下校平模的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為圖1所示的沖壓校平模具的下校平模的俯視圖;
圖6為圖4中區(qū)域B的局部放大圖;
圖7為圖1所示的沖壓校平模具的沖壓局部示意圖。
附圖標(biāo)號說明:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市正和首信精密科技有限公司,未經(jīng)深圳市正和首信精密科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720663776.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





