[實用新型]一種非接觸式彈頭痕跡測量儀有效
| 申請號： | 201720663750.6 | 申請日： | 2017-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN206818135U | 公開（公告）日： | 2017-12-29 |
| 發明（設計）人： | 李剛;王翔宇;楊揚;王曉偉;黃歡;宋曙光 | 申請（專利權）人： | 李剛 |
| 主分類號： | G01B9/04 | 分類號： | G01B9/04;G01N21/84;G01N21/01;G01B11/26;G01B11/02;G01B11/28;G01B11/24;G01G19/52 |
| 代理公司： | 北京名華博信知識產權代理有限公司11453 | 代理人： | 李中強 |
| 地址： | 050021 河北省石家*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 接觸 彈頭 痕跡 測量儀 | ||
【權利要求書】：
1.一種非接觸式彈頭痕跡測量儀，其特征在于：所述的非接觸式彈頭痕跡測量儀包括計算機、聚焦控制電機、CCD攝像機、圖像采集卡、彈頭旋轉控制電機、三維工作臺、彈頭裝夾裝置、測量顯微鏡、光纖光源、發光導體和發光器，其中，所述的彈頭裝夾裝置設置在三維工作臺上，計算機通過彈頭旋轉控制電機與三維工作臺相連，計算機通過聚焦控制電機與測量顯微鏡相連，測量顯微鏡上設有CCD攝像機，計算機通過圖像采集卡與CCD攝像機相連，計算機與光纖光源相連，光纖光源通過發光導體和發光器相連，發光器設置在測量顯微鏡的對應位置上。
2.根據權利要求1所述的一種非接觸式彈頭痕跡測量儀，其特征在于：所述的三維工作臺上設有稱重裝置。
3.根據權利要求1所述的一種非接觸式彈頭痕跡測量儀，其特征在于：所述的發光器為環形發光器。
4.根據權利要求1所述的一種非接觸式彈頭痕跡測量儀，其特征在于：所述的光纖光源為12V/100W光纖冷光源。
5.根據權利要求1所述的一種非接觸式彈頭痕跡測量儀，其特征在于：所述的CCD攝像機型號為SONY公司XC－75工業CCD相機，分辨率768×494；掃描范圍7．95×6．45；感光面8．4μm×9.8μm；水平/垂直掃描頻率15．734kHz/59．94Hz；水平清晰度570線；垂直清晰度400l×F4。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于李剛，未經李剛許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720663750.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
