[實(shí)用新型]一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720654543.4 | 申請(qǐng)日： | 2017-06-07 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN207082268U | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-03-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 田昭生;劉瑋;王繼成;黃磊;王莉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海伊諾爾防偽技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G09F3/02 | 分類號(hào)： | G09F3/02;G06K19/06 |
| 代理公司： | 上海申匯專利代理有限公司31001 | 代理人： | 翁若瑩,吳小麗 |
| 地址： | 201100 *** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 雙重 復(fù)合 防偽 標(biāo)簽 | ||
1.一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：包括防偽表層(10)和防偽底層(20)，防偽表層(10)粘附于防偽底層(20)上，防偽表層(10)與防偽底層(20)之間設(shè)有隱藏密碼層(30)；
所述防偽表層(10)上設(shè)有二維碼層(101)、涂刮密碼層(102)、防偽底紋矢量圖層(103)，防偽底紋矢量圖層(103)緊貼所述防偽表層(10)設(shè)置，二維碼層(101)、涂刮密碼層(102)均設(shè)于防偽底紋矢量圖層(103)上。
2.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述涂刮密碼層(102)和隱藏密碼層(30)構(gòu)成雙重復(fù)合防偽。
3.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述二維碼層(101)與涂刮密碼層(102)相連設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1或3所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述二維碼層(101)與涂刮密碼層(102)縱向相連設(shè)置，且相連高度與所述防偽表層(10)寬度相一致。
5.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述隱藏密碼層(30)印刷于所述防偽底層(20)內(nèi)面或者所述防偽表層(10)背面。
6.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述隱藏密碼層(30)包括粘附于所述防偽底層(20)內(nèi)面上的薄膜層，所述薄膜層上印有防偽碼。
7.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述防偽底層(20)內(nèi)面設(shè)有防偽水印。
8.如權(quán)利要求1所述的一種雙重復(fù)合防偽標(biāo)簽，其特征在于：所述防偽表層(10)為激光全息膜。
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