[實用新型]利用外濾式除塵器凈氣室結構的噴氨混合系統

有效

• 申請號: 201720649438.1
• 申請日: 2017-06-06
• 公開（公告）號: CN206853478U
• 公開（公告）日: 2018-01-09
• 發明（設計）人: 聶曦;姚群;李騫;鄭敏倩
• 申請（專利權）人: 中鋼集團天澄環保科技股份有限公司
• 主分類號: B01F3/02
• 分類號: B01F3/02;B01F5/02;B01D53/86;B01D53/56;B01D53/76
• 代理公司: 武漢宇晨專利事務所42001
• 代理人: 王敏鋒

技術領域

本實用新型屬于煙氣凈化技術領域，具體涉及利用外濾式除塵器凈氣室結構的噴氨混合系統。

背景技術

氮氧化物對環境的損害作用極大，它既是形成酸雨的主要物質之一，也是形成大氣中光化學煙霧的重要物質和消耗臭氧的一個重要因子。工業高溫煙氣主要使用還原劑（氨氣、尿素、烷烴等）與氮氧化物發生化學反應還原氮氧化物，還原劑以氨氣使用較多，從而達到煙氣中氮氧化物的凈化，選擇性催化還原工藝（SCR）是主要技術之一。

氮氧化物對環境的損害作用極大，它既是形成酸雨的主要物質之一，也是形成大氣中光化學煙霧的重要物質和消耗臭氧的一個重要因子。工業高溫煙氣主要使用還原劑（氨氣、尿素、烷烴等）與氮氧化物發生化學反應還原氮氧化物，還原劑以氨氣使用較多，從而達到煙氣中氮氧化物的凈化，選擇性催化還原工藝（SCR）是主要技術之一。

專利公開號CN205435252U的文獻公開了一種一體化除塵脫硝脫硫裝置，將噴氨系統與脈沖清灰系統結合，用氨氣替代濾袋清灰壓縮空氣，由于上箱體諸多噴吹管輪流或交替、間斷清灰，局部過濾元件，脈沖噴吹氨氣，既不能保證氨氣的持續供給，也無法保證氨氣均勻、計量注入煙氣，煙氣混合不均勻，將導致脫硝效率不穩定，氨氣逃逸率高。

專利公開號CN205307996U的文獻公開了除塵脫硝一體化裝置，直接將噴氨格柵布置在催化劑模塊的上部，混合長度短，且無煙氣混合器，不能實現還原劑與煙氣氮氧化物混合良好，后果是脫硝效率低和氨氣逃逸率低。

專利公開號CN105107349A的文獻公開了一種焦爐煙道氣脫硫脫硝聯合凈化工藝裝置，將除塵器上箱體延伸作為脫硝反應器，將還原劑注入格柵置于脫硝催化劑模塊入口，沒有設置煙氣混合器，由于上箱體通道面積大，煙氣流速低，還原劑與煙氣混合效果更差。

以上三個專利文獻是除塵脫硝一體化的典型工藝，如增設靜態混合器，煙道需增長，且系統運行阻力增大。

在傳統典型的選擇性催化還原脫硝工藝中，在催化劑模塊前端的煙道段安裝噴氨格柵與煙氣混合器和煙氣整流裝置，混合器和整流裝置后分別保留足夠長度的煙道，確保煙氣混合效果、整流效果，不僅煙道長，而且系統阻力大。

發明內容

本實用新型的目的是針對現有技術存在的不足，提供一種利用外濾式除塵器凈氣室結構的噴氨混合系統。

本實用新型的技術解決方案是：利用外濾式除塵器凈氣室結構的噴氨混合系統，包括：

噴氨格柵，所述噴氨格柵由安裝氨氣主管組件和氨氣支管構成；所述氨氣支管安裝有氨氣噴嘴，以法蘭聯結于氨氣主管組件；每根氨氣支管對應安裝有調節閥門和檢測儀表組，獨立調節和檢測對應氨氣支管的氨氣流量和工況；

外濾式除塵器的凈氣室，所述凈氣室包括凈氣室的室壁與花板構成的有限空間，所述凈氣室有煙氣出口；

過濾元件，所述過濾元件安裝在除塵器花板的花板孔口上，用于將進入凈氣室的煙氣分成獨立的若干份，以射流形態進入凈氣室；對應每份煙氣射流單元的流量注入計量的氨氣，氨氣從氨氣噴嘴以孔口射流方式注入；實現對煙氣精準、均勻地注入氨氣；

所述噴氨格柵安裝在外濾式除塵器的凈氣室內；

噴吹管，所述噴吹管安裝在凈氣室上；所述噴吹管設置在過濾元件的上方；

所述一個凈氣室獨立配置一個噴氨格柵，或多個凈氣室共用一個噴氨格柵。

根據本實用新型實施例，所述花板孔口和過濾元件的出口安裝有噴吹壓縮空氣引流器文氏管；或者安裝射流導流板；所述射流導流板包括但不限于三角形、矩形、梯形、多邊形、半圓形或半橢圓形。

根據本實用新型實施例，所述噴吹管兩側對稱安裝側翼板；所述側翼板的葉片性狀包括但不限于矩形、梯形、多邊形、半圓形或半橢圓形。

根據本實用新型實施例，所述過濾元件采用中心噴吹清灰方式時，氨氣支管安裝在噴吹管背面，氨氣噴嘴與過濾元件同軸，氨氣噴嘴朝向與煙氣孔口射流流向一致。

根據本實用新型實施例，所述過濾元件采用中心噴吹清灰方式時，氨氣支管安裝在噴吹管背面，氨氣噴嘴與過濾元件同軸，氨氣噴嘴朝向與煙氣孔口射流流向一致。

根據本實用新型實施例，所述過濾元件采用中心噴吹清灰方式時，氨氣支管布置在清灰裝置噴吹管之間通道、噴吹管與凈氣室壁板之間通道中或出口，即過濾元件孔口煙氣射流在噴吹管之間通道內形成的平面紊流射流區域中，氨氣噴嘴的軸線分別位于兩相鄰過濾元件軸線的對稱線，氨氣噴嘴朝向與平面紊流射流流向一致。