[實(shí)用新型]一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720631229.4
• 申請(qǐng)日: 2017-05-18
• 公開（公告）號(hào): CN206854234U
• 公開（公告）日: 2018-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃賢強(qiáng);沈達(dá)軍;趙芷綺;張?zhí)K州;栗學(xué)華;郭見英;何建軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江溢閎光電科技有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/10
• 分類號(hào): B08B3/10;F27D9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于多晶硅生產(chǎn)工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)。

背景技術(shù)

多晶硅料的表層含有很多非硅材料，在鑄錠爐中會(huì)影響晶體的生長(zhǎng)，因而在將多晶硅料投入鑄錠爐中前需要對(duì)多晶硅料進(jìn)行清洗。清洗過程一般包括酸洗和水洗，用酸洗將多晶硅料表層的非硅材料去除，用水洗將殘留的酸液去除。傳統(tǒng)的水洗的方式為將經(jīng)酸洗后的多晶硅料放入水池中浸泡清洗，若采用冷水浸泡，由于活性差，去酸的能力較低，浸泡時(shí)間長(zhǎng)且浪費(fèi)的水量大。經(jīng)過驗(yàn)證，浸泡的水溫在38～40℃的溫度時(shí)，其去酸效果最好。

鑄錠爐在工作時(shí)，爐體內(nèi)的溫度可以高達(dá)1500℃左右，在工作時(shí)需要降溫。申請(qǐng)人針對(duì)鑄錠爐需要降溫以及用于浸泡去酸的最佳水溫在38～40℃的事實(shí)，設(shè)計(jì)了一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)，即給鑄錠爐降了工作溫度，得到了38～40℃浸泡用水，節(jié)省了浸泡時(shí)間，減少了水資源的浪費(fèi)。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述的技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)，即給鑄錠爐降了工作溫度，得到了38～40℃浸泡用水，節(jié)省了浸泡時(shí)間，減少了水資源的浪費(fèi)。

為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，本實(shí)用新型采用了以下的技術(shù)方案：

一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)，包括鑄錠爐、浸泡清洗池以及板式換熱器，所述鑄錠爐的內(nèi)壁設(shè)置有盤管，所述盤管的進(jìn)出水口穿透鑄錠爐爐壁露于鑄錠爐外部，所述浸泡清洗池與盤管的進(jìn)水口之間連接有進(jìn)水管道，所述進(jìn)水管道上設(shè)置有第一水泵，在盤管的出水口與板式換熱器之間設(shè)置有出水管道；所述板式換熱器包括熱水管道、冷水管道以及換熱片，所述換熱片緊貼熱水管道和冷水管道設(shè)置，出水管道與熱水管道的進(jìn)水口相連，熱水管道的出水口與浸泡清洗池之間連接有回水管道。將浸泡清洗池里的水通過第一水泵及進(jìn)水管道不停輸送至鑄錠爐爐體內(nèi)的盤管，有效降低鑄錠爐的爐溫，加熱后的高溫水通過板式換熱器換熱后得到38～40攝氏度的水流回浸泡清洗池內(nèi)，對(duì)放置在浸泡清洗池的多晶硅料進(jìn)行浸泡去酸工作，本實(shí)用新型即降低了工作爐溫，又節(jié)省了多晶硅料的浸泡時(shí)間，減少了水資源的浪費(fèi)。

作為優(yōu)選，所述盤管由一整根金屬管盤繞彎折而成，包括柱狀盤管以及位于柱狀盤管底部的平面盤管，所述柱狀盤管緊貼鑄錠爐側(cè)壁設(shè)置，平面盤管緊貼鑄錠爐的爐底設(shè)置。

作為優(yōu)選，所述盤管通過設(shè)置支架與鑄錠爐之間完成固定。

作為優(yōu)選，所述支架有四根且均呈Z形，所述的支架一端固定在鑄錠爐的內(nèi)側(cè)壁上，另一端固定在鑄錠爐的爐底。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：將浸泡清洗池里的水通過第一水泵及進(jìn)水管道不停輸送至鑄錠爐爐體內(nèi)的盤管，有效降低鑄錠爐的爐溫，加熱后的高溫水通過板式換熱器換熱后得到38～40攝氏度的水流回浸泡清洗池內(nèi)，對(duì)放置在浸泡清洗池的多晶硅料進(jìn)行浸泡去酸工作，本實(shí)用新型既降低了工作爐溫，又節(jié)省了多晶硅料的浸泡時(shí)間，減少了水資源的浪費(fèi)。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的工作框圖。

圖2是盤管的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做一個(gè)詳細(xì)的說明。

如圖1～圖2所示的一種利用鑄錠爐余熱的清洗系統(tǒng)，包括鑄錠爐1、浸泡清洗池2以及板式換熱器3，所述鑄錠爐1的內(nèi)壁設(shè)置有盤管4，所述盤管4的進(jìn)出水口穿透鑄錠爐1爐壁露于鑄錠爐1外部，所述浸泡清洗池2與盤管4的進(jìn)水口之間連接有進(jìn)水管道5，所述進(jìn)水管道5上設(shè)置有第一水泵6，在盤管4的出水口與板式換熱器3之間設(shè)置有出水管道7；所述板式換熱器3包括熱水管道(圖上未標(biāo)示)、冷水管道8以及換熱片(圖上未標(biāo)示)，所述換熱片(圖上未標(biāo)示)緊貼熱水管道(圖上未標(biāo)示)和冷水管道8設(shè)置，出水管道7與熱水管道(圖上未標(biāo)示)的進(jìn)水口相連，熱水管道的出水口與浸泡清洗池2之間連接有回水管道9。盤管4由一整根金屬管盤繞彎折而成，包括柱狀盤管41以及位于柱狀盤管41底部的平面盤管42，所述柱狀盤管41緊貼鑄錠爐1側(cè)壁設(shè)置，平面盤管42緊貼鑄錠爐1的爐底設(shè)置。盤管4通過設(shè)置支架43與鑄錠爐1之間完成固定。支架43有四根且均呈Z形，所述的支架43一端固定在鑄錠爐1的內(nèi)側(cè)壁上，另一端固定在鑄錠爐1的爐底。

其工作過程如下：將浸泡清洗池里的水通過第一水泵及進(jìn)水管道不停輸送至鑄錠爐爐體內(nèi)的盤管，有效降低鑄錠爐的爐溫，加熱后的高溫水通過板式換熱器換熱后得到38～40攝氏度的水流回浸泡清洗池內(nèi)，對(duì)放置在浸泡清洗池的多晶硅料進(jìn)行浸泡去酸工作。

本實(shí)用新型即降低了工作爐溫，又節(jié)省了多晶硅料的浸泡時(shí)間，減少了水資源的浪費(fèi)。

本說明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本實(shí)用新型所作的舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實(shí)用新型說明書的內(nèi)容或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。