[實(shí)用新型]沖壓臺(tái)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720629047.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206999728U | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高碧祥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 重慶市北碚區(qū)墨丘利機(jī)械廠 |
| 主分類號(hào): | B30B15/02 | 分類號(hào): | B30B15/02 |
| 代理公司: | 北京久維律師事務(wù)所11582 | 代理人: | 邢江峰 |
| 地址: | 400700 重*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;85 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓臺(tái) | ||
1.沖壓臺(tái),其特征在于:包括臺(tái)體和固定在臺(tái)體表面上的阻尼塊,所述阻尼塊左右設(shè)置,而且所述阻尼塊上開有傾斜的斜面,所述左右兩個(gè)斜面形成尖端朝下的夾角,所述斜面上設(shè)有豎直的條狀凹槽,所述條狀凹槽的橫截面為波浪狀,所述阻尼塊上方的沖壓頭的兩側(cè)固定有緩沖塊,所述緩沖塊的底端設(shè)有與阻尼塊相一致的斜面,所述緩沖塊的斜面上開有與阻尼塊上條狀凹槽相適配的凹槽。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于重慶市北碚區(qū)墨丘利機(jī)械廠,未經(jīng)重慶市北碚區(qū)墨丘利機(jī)械廠許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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