[實用新型]一種等離子體催化凈化氣體處理裝置有效
| 申請號: | 201720607260.4 | 申請日: | 2017-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN206823546U | 公開(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發明(設計)人: | 孫卓;孫新昊;劉素霞 | 申請(專利權)人: | 上海納晶科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/86 | 分類號: | B01D53/86;B01D53/72 |
| 代理公司: | 北京連城創新知識產權代理有限公司11254 | 代理人: | 王雯婷,方燕娜 |
| 地址: | 201109 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 催化 凈化 氣體 處理 裝置 | ||
1.一種等離子體催化凈化氣體處理裝置,包括等離子體催化反應室,其特征是:所述等離子體催化反應室(2)內的左側均布有若干催化電極(1),位于催化電極(1)右側的等離子體催化反應室(2)內設有催化材料室(3),所述催化材料室(3)內填充有顆粒型催化材料;所述等離子體催化反應室(2)的左側開設有進氣口(4),等離子體催化反應室(2)的右側開設有排氣口(5),所述進氣口(4)和排氣口(5)分別設有一個傳感檢測模塊。
2.如權利要求1所述的一種等離子體催化凈化氣體處理裝置,其特征是:所述等離子體催化反應室(2)由絕緣介質基片(10)、催化薄膜(11)、等離子體正極產生電極(12)、等離子體負極產生電極(13)和電源電器控制單元(14)組成,所述絕緣介質基片(10)呈平行板形狀,絕緣介質基片(10)的上下表面分別設有一層催化薄膜(11),位于絕緣介質基片(10)上方的催化薄膜(11)的上表面設有等離子體正極產生電極(12),位于絕緣介質基片(10)下方的催化薄膜(11)的下表面設有等離子體負極產生電極(13),所述等離子體正極產生電極(12)和等離子體負極產生電極(13)之間通過電源電器控制單元(14)相連。
3.如權利要求1所述的一種等離子體催化凈化氣體處理裝置,其特征是:所述等離子體催化反應室(2)由絕緣介質基片(10)、催化薄膜(11)、等離子體正極產生電極(12)、等離子體負極產生電極(13)和電源電器控制單元(14)組成,所述絕緣介質基片(10)呈空心圓筒形管狀,絕緣介質基片(10)空心管狀的內外側面分別設有一層催化薄膜(11),位于絕緣介質基片(10)內的催化薄膜(11)內側設有等離子體負極產生電極(13),位于絕緣介質基片(10)外的催化薄膜(11)外側設有等離子體正極產生電極(12),所述等離子體正極產生電極(12)和等離子體負極產生電極(13)之間通過電源電器控制單元(14)相連。
4.如權利要求2或3所述的一種等離子體催化凈化氣體處理裝置,其特征是:所述等離子體正極產生電極(12)和等離子體負極產生電極(13)均為網狀金屬電極。
5.如權利要求4所述的一種等離子體催化凈化氣體處理裝置,其特征是:所述催化材料為碳或金屬氧化物材料。
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