[實用新型]一種進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙有效
| 申請號: | 201720593470.2 | 申請日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN207020121U | 公開(公告)日: | 2018-02-16 |
| 發明(設計)人: | 梁明龍;李中;伍壽勝;崔曉斌;劉勤;廖姍 | 申請(專利權)人: | 桂林樂爾醫療器械有限公司;桂林中輝科技發展有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/27 | 分類號: | G01N27/27 |
| 代理公司: | 桂林市華杰專利商標事務所有限責任公司45112 | 代理人: | 王儉 |
| 地址: | 541004 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 缺口 隔絕 電流 干擾 同步 分析 傳感 試紙 | ||
1.一種進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,包括第一絕緣基片和第二絕緣基片、以及設置在第一絕緣基片和第二絕緣基片上的兩個相互獨立的檢測體系,所述檢測體系包括設置在第一絕緣基片和第二絕緣基片中的導液槽體,所述導液槽體設有獨立的第一導液槽和第二導液槽,第一導液槽設有第一進樣口,第二導液槽設有第二進樣口;
其特征在于,所述第一絕緣基片設有第一進樣缺口,第二絕緣基片設有第二進樣缺口,導液槽體設有第三進樣缺口;所述第一進樣缺口、第二進樣缺口和第三進樣缺口的形狀和尺寸相同;第一絕緣基片、導液槽體、第二絕緣基片順序層疊后,形成一個層疊進樣缺口,層疊進樣缺口進深方向的兩側端面,分別是第一進樣口、第二進樣口。
2.根據權利要求1所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述層疊進樣缺口開口寬度為0.5mm~5mm、垂直進深為1mm~10mm。
3.根據權利要求1所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述層疊進樣缺口呈長方形、U形或V形。
4.根據權利要求1所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,包括
位于第一絕緣基片上的第一導電膜層,所述第一導電膜層包括相互絕緣的第一反應物工作電極和第二反應物工作電極;
反應膜層,所述反應膜層包括第一反應膜和第二反應膜,第一反應膜覆蓋于第一反應物工作電極上,第二反應膜覆蓋于第二反應物工作電極上。
5.根據權利要求4所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述導液槽體設置在第一導電膜層上,所述導液槽體將第一反應膜和第二反應膜分隔在獨立的導液槽內,導液槽體形成第一導液槽和第二導液槽,第一反應膜設置在第一導液槽內,第二反應膜設置在第二導液槽內,第一導液槽對應第一反應物工作電極,第二導液槽對應第二反應物工作電極。
6.根據權利要求4所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述第二絕緣基片的背面設有第二導電膜層,第二導電膜層包括第一反應物參比電極和第二反應物參比電極;
包括親水膜層,所述親水膜層包括第一親水膜和第二親水膜,第一親水膜覆蓋于第一反應物參比電極上,第二親水膜覆蓋于第二反應物參比電極上;
第二絕緣基片的背面與導液槽體、第一絕緣基片貼接,第一導液槽形成第一反應腔,第二導液槽形成第二反應腔,導液槽體將第一反應膜、第二反應膜分隔在獨立的反應腔內;第一親水膜與第一反應膜相對應,第二親水膜與第二反應膜相對應。
7.根據權利要求6所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,包括第三導電膜層,所述第三導電膜層設置在第二絕緣基片的前面,第三導電膜層分別設有第一引腳和第二引腳;
第二絕緣基片設有第一導通孔、第二導通孔,第一導通孔使第一引腳與第一反應物參比電極形成電連接,第二導通孔使第二引腳與第二反應物參比電極形成電連接。
8.根據權利要求6所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述第二絕緣基片和第二導電膜層對應于第一親水膜處設有第一進樣觀察窗,第二絕緣基片和第二導電膜層對應于第二親水膜處設有第二進樣觀察窗。
9.根據權利要求6所述的進樣缺口隔絕電流干擾的同步多分析物傳感試紙,其特征在于,所述第二絕緣基片的下部設有基片缺口,第一絕緣基片上的第一反應物工作電極和第二反應物工作電極從基片缺口露出。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于桂林樂爾醫療器械有限公司;桂林中輝科技發展有限公司,未經桂林樂爾醫療器械有限公司;桂林中輝科技發展有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720593470.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





