[實用新型]一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720592690.3 | 申請日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN206843089U | 公開(公告)日: | 2018-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 盧洪順;盧玉朔;鄒玉國;范鮑東;潘士剛;賈啟;張剛 | 申請(專利權(quán))人: | 茌平信發(fā)華宇氧化鋁有限公司 |
| 主分類號: | C01F7/02 | 分類號: | C01F7/02;B01D21/02 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司37221 | 代理人: | 趙敏玲 |
| 地址: | 252100 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改進型 氧化鋁 生產(chǎn) 沉降 加熱 裝置 | ||
1.一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,包括沉降槽、進料管道、蒸汽輸送管道、進蒸汽管道和蒸汽盤管,所述沉降槽為圓筒形,所述沉降槽的頂部設(shè)有進料口、蒸汽進口和排氣口,所述進料管道設(shè)置在沉降槽上方,所述進料管道的一端通過進料口插入沉降槽內(nèi),所述蒸汽輸送管道設(shè)置在沉降槽的上方,所述進蒸汽管道通過蒸汽進口插入沉降槽內(nèi),并延伸到沉降槽下部,所述進蒸汽管道的頂端與蒸汽輸送管道相連通,所述蒸汽盤管設(shè)置在沉降槽的下部,所述進蒸汽管道的底端與蒸汽盤管相連通,所述蒸汽盤管上設(shè)有多個均勻布置的蒸汽出孔;所述沉降槽的下部設(shè)有出料口,所述出料口位于蒸汽盤管的下方;所述出料口連接有出料管;所述排氣口內(nèi)插接有排氣管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,所述蒸汽盤管與出料口之間的間距為0.5米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,所述進蒸汽管道和出料管上分別設(shè)有閥門。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,所述出料管的一端連接有出料泵。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,所述蒸汽盤管上的蒸汽出孔與所述出料口的方向相垂直。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進型氧化鋁生產(chǎn)用沉降槽加熱裝置,其特征是,所述進料管道上設(shè)有進料閥。
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